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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7571730 | 液晶配向剤、液晶配向膜及びそれを用いた液晶表示素子 | 2024年10月23日 | |
特許 7571912 | ジオール構造を含むレジスト下層膜形成用組成物 | 2024年10月23日 | |
特許 7569016 | 硬化膜形成組成物、配向材および位相差材 | 2024年10月17日 | |
特許 7569021 | ハードコート用硬化性組成物 | 2024年10月17日 | |
特許 7564503 | シリコン含有レジスト下層膜の製造方法 | 2024年10月 9日 | |
特許 7564521 | 感光性繊維形成組成物及び繊維パターンの形成方法 | 2024年10月 9日 | |
特許 7563379 | ヒドロキシアリール基末端の重合体を含む薬液耐性保護膜形成組成物 | 2024年10月 8日 | |
特許 7559746 | エネルギー貯蔵デバイス電極用薄膜形成用組成物 | 2024年10月 2日 | |
特許 7559816 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | 2024年10月 2日 | |
特許 7559975 | 多環芳香族含有ポリマーを含むレジスト下層膜形成用組成物 | 2024年10月 2日 | |
特許 7559977 | 自己架橋性ポリマーを含む光硬化性樹脂組成物 | 2024年10月 2日 | |
特許 7560366 | ペプチド化合物の製造方法 | 2024年10月 2日 | |
特許 7556290 | 細胞培養の下地膜として使用するポリマーの製造方法及び細胞培養容器 | 2024年 9月26日 | |
特許 7556423 | レジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 | 2024年 9月26日 | |
特許 7552582 | 液晶配向剤、液晶配向膜及びそれを用いた液晶表示素子 | 2024年 9月18日 |
179 件中 16-30 件を表示
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7571730 7571912 7569016 7569021 7564503 7564521 7563379 7559746 7559816 7559975 7559977 7560366 7556290 7556423 7552582
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11月22日(金) -
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11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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