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日産化学工業株式会社
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第469位 69件
（
2014年：第276位 150件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第221位 135件
（
2014年：第275位 146件）
（ランキング更新日：2026年10月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日産化学工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5761532 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子及び液晶表示素子の製造方法 | 2015年 8月12日 | |
| 特許 5761995 | アンモニウム基を有する分岐高分子化合物からなる金属微粒子分散剤 | 2015年 8月12日 | |
| 特許 5762391 | 高耐熱性含硫黄有機置換ポリゲルマン化合物 | 2015年 8月12日 | |
| 特許 5762392 | 有機置換ポリゲルマン化合物の製造方法 | 2015年 8月12日 | |
| 特許 5761493 | カルボキシル基を有する高分岐ポリマーを含む熱硬化性樹脂材料 | 2015年 8月12日 | |
| 特許 5757286 | フラーレン誘導体を含むレジスト下層膜形成組成物 | 2015年 7月29日 | |
| 特許 5757242 | ケイ素化合物を用いる膜形成組成物 | 2015年 7月29日 | |
| 特許 5757126 | フローリアクターを用いたシャープレス不斉エポキシ化反応 | 2015年 7月29日 | |
| 特許 5754344 | テトラハイドロペンタレン型酸二無水物、その製造法及びポリイミド | 2015年 7月29日 | |
| 特許 5752036 | 光学活性エポキシ化合物の製造方法、並びに該方法に用いる配位子、錯体、該配位子の製造方法、及び該錯体の製造方法 | 2015年 7月22日 | |
| 特許 5750798 | 糖由来の低分子ヒドロゲル化剤、および前記ヒドロゲル化剤を有効成分とするヒドロゲル | 2015年 7月22日 | |
| 特許 5751167 | ビシクロカーバメート化合物からの２−アザアダマンタン化合物の製造方法 | 2015年 7月22日 | |
| 特許 5751171 | 液晶配向処理剤及びそれを用いた液晶表示素子 | 2015年 7月22日 | |
| 特許 5751422 | 光学活性エポキシ化合物の製造方法 | 2015年 7月22日 | |
| 特許 5751432 | 塩基性シアヌル酸亜鉛微粒子及びその製造方法 | 2015年 7月22日 |
169 件中 61-75 件を表示
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5761532 5761995 5762391 5762392 5761493 5757286 5757242 5757126 5754344 5752036 5750798 5751167 5751171 5751422 5751432
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