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株式会社フジミインコーポレーテッド

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  2024年 出願公開件数ランキング    第741位 32件 下降2023年:第725位 39件)

  2024年 特許取得件数ランキング    第494位 49件 下降2023年:第485位 57件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2024-145868 溶射用粉末 2024年10月15日
特開 2024-145869 溶射用粉末 2024年10月15日
特開 2024-145870 溶射用粉末 2024年10月15日
特開 2024-146357 研磨用組成物および磁気ディスク基板製造方法 2024年10月15日
特開 2024-143466 研磨用組成物、基板の製造方法および研磨方法 2024年10月11日
特開 2024-143467 研磨用組成物、基板の製造方法および研磨方法 2024年10月11日
特開 2024-143701 研磨用組成物及びその製造方法、研磨方法 2024年10月11日
特開 2024-144139 表面処理組成物、表面処理方法、および半導体基板の製造方法 2024年10月11日
特開 2024-141119 研磨用組成物、研磨方法および半導体基板の製造方法 2024年10月10日
特開 2024-141139 研磨および洗浄方法、洗浄剤、ならびに研磨用組成物と洗浄剤とのセット 2024年10月10日
特開 2024-141600 研磨用組成物および研磨方法 2024年10月10日
特開 2024-139651 研磨用組成物、研磨方法、および半導体基板の製造方法 2024年10月 9日
特開 2024-134682 研磨用組成物 2024年10月 4日
特開 2024-135558 研磨用組成物、研磨方法および半導体基板の製造方法 2024年10月 4日
特開 2024-132946 研磨用組成物、研磨方法、および半導体基板の製造方法 2024年10月 1日

32 件中 1-15 件を表示

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2024-145868 2024-145869 2024-145870 2024-146357 2024-143466 2024-143467 2024-143701 2024-144139 2024-141119 2024-141139 2024-141600 2024-139651 2024-134682 2024-135558 2024-132946

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