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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第600位 54件
(2014年:第612位 52件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第1164位 17件
(2014年:第1883位 12件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5695367 | 研磨用組成物及びそれを用いた研磨方法 | 2015年 4月 1日 | |
特許 5676161 | 溶射用粉末及び溶射皮膜の形成方法 | 2015年 2月25日 | |
特許 5669353 | 溶射用スラリー、溶射皮膜の形成方法、及び溶射皮膜 | 2015年 2月12日 | |
特許 5656960 | LPD低減剤及びそれを用いたシリコンウエハの欠陥低減方法 | 2015年 1月21日 |
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5695367 5676161 5669353 5656960
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