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株式会社フジミインコーポレーテッド
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第408位 103件
（
2016年：第572位 58件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第496位 51件
（2016年：第636位 40件）
（ランキング更新日：2025年6月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社フジミインコーポレーテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6185047 | 溶射用スラリー、及び溶射皮膜の形成方法 | 2017年 8月23日 | |
| 特許 6185274 | 磁気ディスク基板用研磨組成物キット | 2017年 8月23日 | |
| 特許 6185432 | シリコンウェーハ研磨用組成物 | 2017年 8月23日 | |
| 特許 6174625 | 研磨方法及び組成調整剤 | 2017年 8月 2日 | |
| 特許 6170798 | 基板の製造方法 | 2017年 7月26日 | |
| 特許 6170994 | 粉末積層造形に用いるための造形用材料 | 2017年 7月26日 | |
| 特許 6159792 | 溶射用スラリー及び溶射皮膜の形成方法 | 2017年 7月 5日 | |
| 特許 6155017 | 研磨用組成物およびその利用 | 2017年 6月28日 | |
| 特許 6151711 | 研磨用組成物 | 2017年 6月21日 | |
| 特許 6145501 | 研磨用組成物及びシリコン基板の研磨方法 | 2017年 6月14日 | |
| 特許 6139975 | 研磨用組成物 | 2017年 5月31日 | |
| 特許 6140384 | 研磨用組成物 | 2017年 5月31日 | |
| 特許 6140390 | 研磨用組成物 | 2017年 5月31日 | |
| 特許 6132315 | 研磨用組成物 | 2017年 5月24日 | |
| 特許 6133271 | 研磨用組成物及び半導体基板の製造方法 | 2017年 5月24日 |
54 件中 16-30 件を表示
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6185047 6185274 6185432 6174625 6170798 6170994 6159792 6155017 6151711 6145501 6139975 6140384 6140390 6132315 6133271
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