ホーム > 特許ランキング > 株式会社フジミインコーポレーテッド > 2017年 > 特許一覧
株式会社フジミインコーポレーテッド
※ ログインすれば出願人(株式会社フジミインコーポレーテッド)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2017年 出願公開件数ランキング 第540位 58件
（
2016年：第629位 50件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第496位 51件
（2016年：第636位 40件）
（ランキング更新日：2026年10月23日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年 2026年
株式会社フジミインコーポレーテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6132315 | 研磨用組成物 | 2017年 5月24日 | |
| 特許 6129336 | 半導体用濡れ剤及び研磨用組成物 | 2017年 5月17日 | |
| 特許 6122783 | 研磨用組成物及び半導体基板の製造方法 | 2017年 4月26日 | |
| 特許 6113741 | 研磨用組成物 | 2017年 4月12日 | |
| 特許 6113619 | 研磨用組成物 | 2017年 4月12日 | |
| 特許 6110681 | 研磨用組成物、研磨用組成物製造方法および研磨物製造方法 | 2017年 4月 5日 | |
| 特許 6105916 | セルロース誘導体組成物、当該セルロース誘導体組成物を用いた研磨用組成物、当該研磨用組成物の製造方法、および当該研磨用組成物を用いた基板の製造方法 | 2017年 3月29日 | |
| 特許 6103659 | 研磨用組成物 | 2017年 3月29日 | |
| 特許 6099067 | 研磨用組成物 | 2017年 3月22日 | |
| 特許 6101444 | 研磨用組成物及びそれを用いた磁気ディスク用基板の製造方法 | 2017年 3月22日 | |
| 特許 6097701 | 溶射材料、及び酸化イットリウム皮膜の形成方法 | 2017年 3月15日 | |
| 特許 6096969 | 研磨材、研磨用組成物、及び研磨方法 | 2017年 3月15日 | |
| 特許 6095897 | 研磨用組成物 | 2017年 3月15日 | |
| 特許 6093846 | コバルト除去のための研磨スラリー | 2017年 3月 8日 | |
| 特許 6087442 | 半導体用濡れ剤及び研磨用組成物 | 2017年 3月 1日 |
54 件中 31-45 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
6132315 6129336 6122783 6113741 6113619 6110681 6105916 6103659 6099067 6101444 6097701 6096969 6095897 6093846 6087442
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
10月26日(月) - オンライン
10月26日(月) - オンライン
商標的使用論・商標機能論・商標法26条・権利濫用論等の違いからみた『商標権侵害と対応策』 ～どのように攻め、どのように守るか～
10月26日(月) - オンライン
10月26日(月) - オンライン
10月27日(火) - 東京 千代田
10月27日(火) - 千葉 千葉市
10月27日(火) - 東京 港区
10月28日(水) - オンライン
英文契約の実務（基礎から読解・作成のポイントまで）―日本語契約との違いや起こりやすいトラブル、悩ましい英文も解説します―
10月28日(水) - オンライン
最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点（米国・欧州（EPC)・中国） ～米国ならびに EPC （欧州特許条約）・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します～
10月28日(水) - 東京 千代田
10月28日(水) - オンライン
10月28日(水) - オンライン
10月29日(木) - オンライン
10月29日(木) - オンライン
10月29日(木) - オンライン
10月29日(木) - オンライン
10月30日(金) - オンライン
10月26日(月) - オンライン
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
〒１６６－０００３ 東京都杉並区高円寺南２－５０－２ ＹＳビル３Ｆ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒243-0021 神奈川県厚木市岡田３０５０ 厚木アクストメインタワー３階Ｂ－１ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
埼玉県久喜市久喜東６－２－４６ パレ・ドール久喜２－２０３ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
