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株式会社フジミインコーポレーテッド
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第408位 103件
（
2016年：第572位 58件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第496位 51件
（2016年：第636位 40件）
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株式会社フジミインコーポレーテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6134644 | 基板のエッジ研磨用組成物及びそれを用いた基板のエッジ研磨方法 | 2017年 5月24日 | |
| 特許 6129336 | 半導体用濡れ剤及び研磨用組成物 | 2017年 5月17日 | |
| 特許 6122783 | 研磨用組成物及び半導体基板の製造方法 | 2017年 4月26日 | |
| 特許 6113619 | 研磨用組成物 | 2017年 4月12日 | |
| 特許 6113741 | 研磨用組成物 | 2017年 4月12日 | |
| 特許 6110681 | 研磨用組成物、研磨用組成物製造方法および研磨物製造方法 | 2017年 4月 5日 | |
| 特許 6103659 | 研磨用組成物 | 2017年 3月29日 | |
| 特許 6105916 | セルロース誘導体組成物、当該セルロース誘導体組成物を用いた研磨用組成物、当該研磨用組成物の製造方法、および当該研磨用組成物を用いた基板の製造方法 | 2017年 3月29日 | |
| 特許 6099067 | 研磨用組成物 | 2017年 3月22日 | |
| 特許 6101444 | 研磨用組成物及びそれを用いた磁気ディスク用基板の製造方法 | 2017年 3月22日 | |
| 特許 6095897 | 研磨用組成物 | 2017年 3月15日 | |
| 特許 6096969 | 研磨材、研磨用組成物、及び研磨方法 | 2017年 3月15日 | |
| 特許 6097701 | 溶射材料、及び酸化イットリウム皮膜の形成方法 | 2017年 3月15日 | |
| 特許 6093846 | コバルト除去のための研磨スラリー | 2017年 3月 8日 | |
| 特許 6087442 | 半導体用濡れ剤及び研磨用組成物 | 2017年 3月 1日 |
54 件中 31-45 件を表示
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6134644 6129336 6122783 6113619 6113741 6110681 6103659 6105916 6099067 6101444 6095897 6096969 6097701 6093846 6087442
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