特許ランキング - 出願人詳細情報 -

株式会社フジミインコーポレーテッド

※ ログインすれば出願人(株式会社フジミインコーポレーテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2022年出願公開件数ランキング　　　第590位　51件（2021年：第542位　61件）

　■　2022年特許取得件数ランキング　　　第508位　54件（2021年：第536位　44件）

（ランキング更新日：2025年2月14日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2023年 2024年 2025年

株式会社フジミインコーポレーテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7141837	研磨用組成物、研磨用組成物の製造方法、研磨方法、および半導体基板の製造方法	2022年 9月26日
特許 7141339	研磨用組成物	2022年 9月22日
特許 7140745	表面処理組成物及びその製造方法、表面処理方法、並びに半導体基板の製造方法	2022年 9月21日
特許 7133401	研磨用組成物、研磨用組成物の製造方法、研磨方法および半導体基板の製造方法	2022年 9月 8日
特許 7133414	研磨用組成物	2022年 9月 8日
特許 7128005	研磨用組成物	2022年 8月30日
特許 7125386	研磨用組成物	2022年 8月24日
特許 7120780	研磨用組成物およびそれを用いた研磨方法	2022年 8月17日
特許 7120846	研磨用組成物及びその製造方法並びに研磨方法並びに基板の製造方法	2022年 8月17日
特許 7117226	粉末積層造形に用いるための粉末材料、これを用いた粉末積層造形法および造形物	2022年 8月12日
特許 7115948	研磨用組成物、その製造方法、ならびに研磨用組成物を用いた研磨方法およびこれを含む半導体基板の製造方法	2022年 8月 9日
特許 7111492	研磨用組成物、パッド表面調整用組成物およびその利用	2022年 8月 2日
特許 7111739	研磨用組成物および研磨方法	2022年 8月 2日
特許 7103823	シリコンウェーハの研磨方法および研磨用組成物	2022年 7月20日
特許 7104053	研磨用組成物およびシリコン基板研磨方法	2022年 7月20日

54 件中 16-30 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

7141837 7141339 7140745 7133401 7133414 7128005 7125386 7120780 7120846 7117226 7115948 7111492 7111739 7103823 7104053

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社フジミインコーポレーテッドの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数