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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第397位 84件
(2021年:第283位 135件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第339位 89件
(2021年:第271位 105件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7064149 | レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びその形成方法並びにパターニングされた基板の製造方法 | 2022年 5月10日 | |
特許 7062874 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 | 2022年 5月 9日 | |
特許 7063049 | 感放射線性組成物およびその用途 | 2022年 5月 9日 | |
特許 7063173 | 感放射線性組成物およびその用途 | 2022年 5月 9日 | |
特許 7061268 | レジストパターンの形成方法及び感放射線性樹脂組成物 | 2022年 4月28日 | |
特許 7060018 | 光電変換素子および接着剤 | 2022年 4月26日 | |
特許 7056662 | 重合体、樹脂組成物、樹脂膜、パターン化樹脂膜の製造方法、および電子部品 | 2022年 4月19日 | |
特許 7048903 | パターン形成方法及びEUVリソグラフィー用ケイ素含有膜形成組成物 | 2022年 4月 6日 | |
特許 7047642 | 隔壁形成用感光性組成物、隔壁および表示素子 | 2022年 4月 5日 | |
特許 7047652 | 感放射線性樹脂組成物およびその用途 | 2022年 4月 5日 | |
特許 7044976 | パターン形成方法 | 2022年 3月31日 | |
特許 7043998 | 蓄電デバイス用組成物、蓄電デバイス電極用スラリー、蓄電デバイス電極及び蓄電デバイス | 2022年 3月30日 | |
特許 7041358 | 膜形成用組成物、膜、レジスト下層膜の形成方法、パターニングされた基板の製造方法及び化合物 | 2022年 3月24日 | |
特許 7041359 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 | 2022年 3月24日 | |
特許 7040362 | 光学フィルター、固体撮像装置、カメラモジュールおよび生体認証装置 | 2022年 3月23日 |
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7064149 7062874 7063049 7063173 7061268 7060018 7056662 7048903 7047642 7047652 7044976 7043998 7041358 7041359 7040362
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