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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第397位 84件
(
2021年:第283位 135件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第339位 89件
(
2021年:第271位 105件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7136268 | 着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 | 2022年 9月13日 | |
| 特許 7131310 | パターン形成方法および感放射線性組成物 | 2022年 9月 6日 | |
| 特許 7127643 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 | 2022年 8月30日 | |
| 特許 7127713 | 組成物 | 2022年 8月30日 | |
| 特許 7119291 | 硬化性組成物、硬化物、発光装置およびその製造方法 | 2022年 8月17日 | |
| 特許 7120298 | 感放射線性樹脂組成物及びその製造方法並びにレジストパターン形成方法 | 2022年 8月17日 | |
| 特許 7115165 | 高周波回路用積層体及びフレキシブルプリント基板 | 2022年 8月 9日 | |
| 特許 7115487 | 組成物、膜、膜の形成方法及びパターニングされた基板の製造方法 | 2022年 8月 9日 | |
| 特許 7111115 | 半導体リソグラフィープロセス用膜形成組成物、ケイ素含有膜及びレジストパターン形成方法 | 2022年 8月 2日 | |
| 特許 7103347 | 感放射線性組成物及びレジストパターン形成方法 | 2022年 7月20日 | |
| 特許 7101932 | EUVリソグラフィー用ケイ素含有膜形成組成物、EUVリソグラフィー用ケイ素含有膜及びパターン形成方法 | 2022年 7月19日 | |
| 特許 7100805 | 感放射線性樹脂組成物、オニウム塩化合物及びレジストパターンの形成方法 | 2022年 7月14日 | |
| 特許 7100828 | 走査アンテナ及びその関連技術 | 2022年 7月14日 | |
| 特許 7099323 | 硬化膜の形成方法、感放射線樹脂組成物、硬化膜を備える表示素子及びセンサー | 2022年 7月12日 | |
| 特許 7091762 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法 | 2022年 6月28日 |
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7136268 7131310 7127643 7127713 7119291 7120298 7115165 7115487 7111115 7103347 7101932 7100805 7100828 7099323 7091762
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