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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第621位 55件
(2010年:第1125位 27件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第785位 36件
(2010年:第922位 25件)
(ランキング更新日:2025年4月4日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4836365 | 回路板製造のための組成物 | 2011年12月14日 | |
特許 4832962 | 改善された金合金電解質 | 2011年12月 7日 | |
特許 4817579 | 欠陥の削減方法 | 2011年11月16日 | |
特許 4812365 | 錫電気めっき液および錫電気めっき方法 | 2011年11月 9日 | |
特許 4812582 | レベラー化合物 | 2011年11月 9日 | |
特許 4798938 | フォトレジストシステム | 2011年10月19日 | |
特許 4789361 | 誘電体表面上に導電層を製造する方法 | 2011年10月12日 | |
特許 4789300 | フォトレジストレリーフイメージの形成方法 | 2011年10月12日 | |
特許 4789126 | 気化した有機金属化合物を化学蒸着系に提供する装置 | 2011年10月12日 | |
特許 4789599 | フォトレジスト組成物 | 2011年10月12日 | |
特許 4783484 | 無電解金メッキ溶液および方法 | 2011年 9月28日 | |
特許 4773037 | 耐エッチング性反射防止コーティング組成物 | 2011年 9月14日 | |
特許 4772268 | 反射防止組成物 | 2011年 9月14日 | |
特許 4774281 | フォトレジスト組成物 | 2011年 9月14日 | |
特許 4769455 | コーティング組成物 | 2011年 9月 7日 |
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4836365 4832962 4817579 4812365 4812582 4798938 4789361 4789300 4789126 4789599 4783484 4773037 4772268 4774281 4769455
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4月9日(水) -
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