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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第908位 29件
(
2021年:第1005位 27件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第805位 30件
(
2021年:第787位 27件)
(ランキング更新日:2025年12月12日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7187533 | 光電子デバイスを製造する方法及び光電子デバイスを使用する方法 | 2022年12月12日 | |
| 特許 7171655 | 光酸発生剤を含む反射防止コーティング組成物を使用するパターンの形成方法 | 2022年11月15日 | |
| 特許 7171686 | 誘電体用途向けポリマー樹脂 | 2022年11月15日 | |
| 特許 7171792 | 光学的に透明なせん断増粘流体及びそれを含む光学ディスプレイデバイス | 2022年11月15日 | |
| 特許 7171835 | ビスベンゾシクロブテン配合物 | 2022年11月15日 | |
| 特許 7164563 | フォトレジストパターントリミング組成物及びパターン形成方法 | 2022年11月 1日 | |
| 特許 7160858 | レジスト組成物、その製造方法及びそれを含む物品 | 2022年10月25日 | |
| 特許 7160886 | 感光性ビスマレイミド組成物 | 2022年10月25日 | |
| 特許 7139469 | ケイ素含有下層 | 2022年 9月20日 | |
| 特許 7129170 | 改善された量子ドット樹脂配合物を作製する方法 | 2022年 9月 1日 | |
| 特許 7125972 | 低損失誘電体のためのビスマレイミド架橋剤 | 2022年 8月25日 | |
| 特許 7122355 | フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2022年 8月19日 | |
| 特許 7116121 | レジスト下層組成物及び当該組成物を使用するパターン形成方法 | 2022年 8月 9日 | |
| 特許 7116141 | 屈折率が調節可能なポリマー | 2022年 8月 9日 | |
| 特許 7089573 | ポリイミド-ポリアリーレンポリマー | 2022年 6月22日 |
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7187533 7171655 7171686 7171792 7171835 7164563 7160858 7160886 7139469 7129170 7125972 7122355 7116121 7116141 7089573
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【大阪会場】 前田知財塾 ~スキルアップ編~ 知財の仕事を、もっと深く、もっと面白く! 第2回 「特許権侵害判断・回避構造の検討」
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