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ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ，エル．エル．シー．
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第579位 62件
（
2016年：第508位 66件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第348位 80件
（
2016年：第446位 64件）
（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ，エル．エル．シー．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6254377 | フォトレジスト組成物およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法 | 2017年12月27日 | |
| 特許 6254648 | ピリジルアルキルアミンとビスエポキシドとの反応生成物を含有する電気銅めっき浴からフォトレジスト画定フィーチャを電気めっきする方法 | 2017年12月27日 | |
| 特許 6246564 | パターン形成された透明導電体を製造する方法 | 2017年12月13日 | |
| 特許 6246781 | 精製方法 | 2017年12月13日 | |
| 特許 6247823 | 自己組織化構造、その製造方法、およびそれを含む物品 | 2017年12月13日 | |
| 特許 6242932 | ポリアリーレンポリマー | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6240764 | レベラーとしてベンズイミダゾール部分を含有するポリマー | 2017年11月29日 | |
| 特許 6233986 | パターン処理のための組成物及び方法 | 2017年11月22日 | |
| 特許 6235828 | 銀ミニワイヤ膜を製造する方法 | 2017年11月22日 | |
| 特許 6231161 | パターン処理のための組成物及び方法 | 2017年11月15日 | |
| 特許 6231162 | パターン処理法 | 2017年11月15日 | |
| 特許 6231163 | パターン処理法 | 2017年11月15日 | |
| 特許 6232206 | ポリスチレン−ポリアクリラートブロックコポリマー、その製造方法、およびそれを含む物品 | 2017年11月15日 | |
| 特許 6232394 | 組成物およびフォトリソグラフィー方法 | 2017年11月15日 | |
| 特許 6232406 | フォトリソグラフィー方法 | 2017年11月15日 |
90 件中 1-15 件を表示
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6254377 6254648 6246564 6246781 6247823 6242932 6240764 6233986 6235828 6231161 6231162 6231163 6232206 6232394 6232406
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