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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第570位 60件
(2011年:第621位 55件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第926位 32件
(2011年:第785位 36件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5102428 | 導波路組成物およびこれから形成された導波路 | 2012年12月19日 | |
特許 5095909 | 触媒組成物および析出方法 | 2012年12月12日 | |
特許 5084216 | フォトリソグラフィーのための組成物および方法 | 2012年11月28日 | |
特許 5065660 | 半導体処理 | 2012年11月 7日 | |
特許 5048003 | スズめっき | 2012年10月17日 | |
特許 5052774 | 有機金属化合物および有機金属化合物を製造する方法 | 2012年10月17日 | |
特許 5047502 | 樹脂混合物を含むフォトレジスト組成物 | 2012年10月10日 | |
特許 5027356 | 多孔性物質 | 2012年 9月19日 | |
特許 5021984 | 反射防止ハードマスク組成物 | 2012年 9月12日 | |
特許 5026031 | スズ層を有する金属デュプレックスの製造方法 | 2012年 9月12日 | |
特許 5020486 | 平滑化剤化合物 | 2012年 9月 5日 | |
特許 5015508 | ストリッパー | 2012年 8月29日 | |
特許 5015413 | ポリマーの分別方法 | 2012年 8月29日 | |
特許 4989047 | 浸漬リソグラフィ用の組成物及びプロセス | 2012年 8月 1日 | |
特許 4991074 | 光反応性酸発生剤およびそれを含有してなるフォトレジスト | 2012年 8月 1日 |
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5102428 5095909 5084216 5065660 5048003 5052774 5047502 5027356 5021984 5026031 5020486 5015508 5015413 4989047 4991074
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