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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第497位 67件
(2014年:第514位 67件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第491位 50件
(2014年:第831位 35件)
(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5830240 | スルホニル光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト | 2015年12月 9日 | |
特許 5830323 | 半導体上からホットメルトエッチングレジストを剥離する改良された方法 | 2015年12月 9日 | |
特許 5830503 | 酸発生剤化合物およびそれを含むフォトレジスト | 2015年12月 9日 | |
特許 5820676 | 下層組成物および下層を像形成する方法 | 2015年11月24日 | |
特許 5816349 | 基体上に膜を堆積する方法および気化前駆体化合物を送達する装置 | 2015年11月18日 | |
特許 5813683 | フォトリソグラフィーの組成物および方法 | 2015年11月17日 | |
特許 5813851 | 多結晶性モノリシックアルミン酸マグネシウムスピネル | 2015年11月17日 | |
特許 5814516 | フォトリソグラフィー方法 | 2015年11月17日 | |
特許 5809798 | コラート光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト | 2015年11月11日 | |
特許 5810139 | 光酸発生剤のブレンドを含むフォトレジスト組成物 | 2015年11月11日 | |
特許 5796054 | 新規なポリマーおよびフォトレジスト組成物 | 2015年10月21日 | |
特許 5797380 | 上塗りフォトレジストと共に使用するためのコーティング組成物 | 2015年10月21日 | |
特許 5795481 | フォトリソグラフィパターンを形成する方法 | 2015年10月14日 | |
特許 5788407 | 塩基反応性成分を含む組成物およびフォトリソグラフィのための方法 | 2015年 9月30日 | |
特許 5782224 | 組成物およびフォトリソグラフィー方法 | 2015年 9月24日 |
50 件中 1-15 件を表示
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5830240 5830323 5830503 5820676 5816349 5813683 5813851 5814516 5809798 5810139 5796054 5797380 5795481 5788407 5782224
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2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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