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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第497位 67件
(2014年:第514位 67件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第491位 50件
(2014年:第831位 35件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5830240 | スルホニル光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト | 2015年12月 9日 | |
特許 5830323 | 半導体上からホットメルトエッチングレジストを剥離する改良された方法 | 2015年12月 9日 | |
特許 5830503 | 酸発生剤化合物およびそれを含むフォトレジスト | 2015年12月 9日 | |
特許 5820676 | 下層組成物および下層を像形成する方法 | 2015年11月24日 | |
特許 5816349 | 基体上に膜を堆積する方法および気化前駆体化合物を送達する装置 | 2015年11月18日 | |
特許 5813683 | フォトリソグラフィーの組成物および方法 | 2015年11月17日 | |
特許 5813851 | 多結晶性モノリシックアルミン酸マグネシウムスピネル | 2015年11月17日 | |
特許 5814516 | フォトリソグラフィー方法 | 2015年11月17日 | |
特許 5809798 | コラート光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト | 2015年11月11日 | |
特許 5810139 | 光酸発生剤のブレンドを含むフォトレジスト組成物 | 2015年11月11日 | |
特許 5796054 | 新規なポリマーおよびフォトレジスト組成物 | 2015年10月21日 | |
特許 5797380 | 上塗りフォトレジストと共に使用するためのコーティング組成物 | 2015年10月21日 | |
特許 5795481 | フォトリソグラフィパターンを形成する方法 | 2015年10月14日 | |
特許 5788407 | 塩基反応性成分を含む組成物およびフォトリソグラフィのための方法 | 2015年 9月30日 | |
特許 5782224 | 組成物およびフォトリソグラフィー方法 | 2015年 9月24日 |
50 件中 1-15 件を表示
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5830240 5830323 5830503 5820676 5816349 5813683 5813851 5814516 5809798 5810139 5796054 5797380 5795481 5788407 5782224
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