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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第476位 68件
(
2017年:第579位 62件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第341位 83件
(
2017年:第348位 80件)
(ランキング更新日:2026年2月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6444610 | 混合酸溶液を用いた有機ポリマーのクロムフリーエッチング法 | 2018年12月26日 | |
| 特許 6444663 | アルカリに安定なピリミジン誘導体含有触媒による誘電体の無電解メタライゼーション | 2018年12月26日 | |
| 特許 6444664 | アルカリに安定なピラジン誘導体含有触媒による誘電体の無電解メタライゼーション | 2018年12月26日 | |
| 特許 6445064 | メガサイズのフォトレジスト画定フィーチャを電気めっきすることが可能な電気銅めっき浴及び電気めっき方法 | 2018年12月26日 | |
| 特許 6442001 | インジウム電気めっき組成物、及びインジウムを電気めっきするための方法 | 2018年12月19日 | |
| 特許 6434233 | 配向制御層ポリマー、その製造方法およびそれを含む物品 | 2018年12月 5日 | |
| 特許 6434579 | コポリマー複層電解質を使用したネガ型現像方法及びそれから作製された物品 | 2018年12月 5日 | |
| 特許 6431106 | ナノ構造材料の方法および素子 | 2018年11月28日 | |
| 特許 6431129 | ブロックコポリマーを製造するための方法およびそれから製造される物品 | 2018年11月28日 | |
| 特許 6425524 | 酸不安定基を有する共重合体、フォトレジスト組成物、塗布基板、および電子デバイス形成方法 | 2018年11月21日 | |
| 特許 6427539 | ナノ粒子ポリマーレジスト | 2018年11月21日 | |
| 特許 6427547 | アリールシクロブテン | 2018年11月21日 | |
| 特許 6427631 | アミン化合物を含有するインジウム電気めっき組成物及びインジウムを電気めっきする方法 | 2018年11月21日 | |
| 特許 6427632 | 2−イミダゾリジンチオン化合物を含有するインジウム電気めっき組成物、及びインジウムを電気めっきする方法 | 2018年11月21日 | |
| 特許 6427633 | 1,10−フェナントロリン化合物を含有するインジウム電気めっき組成物、及びインジウムを電気めっきする方法 | 2018年11月21日 |
90 件中 1-15 件を表示
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6444610 6444663 6444664 6445064 6442001 6434233 6434579 6431106 6431129 6425524 6427539 6427547 6427631 6427632 6427633
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