ホーム > 特許ランキング > ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. > 2016年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2016年 出願公開件数ランキング 第508位 66件 (2015年:第497位 67件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第446位 64件 (2015年:第491位 50件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6054594 | めっき浴および方法 | 2016年12月27日 | |
特許 6054595 | めっき浴および方法 | 2016年12月27日 | |
特許 6054676 | シアン化物非含有ホワイトブロンズの接着促進 | 2016年12月27日 | |
特許 6049250 | 光酸発生剤 | 2016年12月21日 | |
特許 6050996 | 硬化性フラックス組成物およびはんだ付け方法 | 2016年12月21日 | |
特許 6046406 | 高温耐性銀コート基体 | 2016年12月14日 | |
特許 6037994 | 光酸発生化合物およびそれを含むフォトレジスト組成物、そのフォトレジストを含むコーティングされた物品、並びに物品を製造する方法 | 2016年12月 7日 | |
特許 6039396 | 光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト | 2016年12月 7日 | |
特許 6040281 | 窒素含有化合物を含むフォトレジスト | 2016年12月 7日 | |
特許 6034588 | フォトリソグラフィのための組成物および方法 | 2016年11月30日 | |
特許 6035017 | 下層組成物および下層を像形成する方法 | 2016年11月30日 | |
特許 6030354 | 透明導電性物品 | 2016年11月24日 | |
特許 6012955 | 硬化性アミンフラックス組成物およびはんだ付け方法 | 2016年10月25日 | |
特許 6012956 | アミンフラックス組成物およびはんだ付け方法 | 2016年10月25日 | |
特許 6014110 | ギャップ充填方法 | 2016年10月25日 |
66 件中 1-15 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
6054594 6054595 6054676 6049250 6050996 6046406 6037994 6039396 6040281 6034588 6035017 6030354 6012955 6012956 6014110
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.の知財の動向チェックに便利です。
11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
大阪府大阪市北区西天満3丁目5-10 オフィスポート大阪801号 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 コンサルティング
東京都品川区東品川2丁目2番24号 天王洲セントラルタワー 22階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
オーブ国際特許事務所(東京都)-ソフトウェア・電気電子分野専門
東京都千代田区飯田橋3-3-11新生ビル5階 特許・実用新案 商標 外国特許 鑑定