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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第508位 66件 (2015年:第497位 67件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第446位 64件 (2015年:第491位 50件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5961363 | ラクトン光酸発生剤、これを含む樹脂およびフォトレジスト | 2016年 8月 2日 | |
特許 5957213 | 硬化性フラックス組成物およびはんだ付け方法 | 2016年 7月27日 | |
特許 5955552 | 光酸発生モノマーを製造する方法 | 2016年 7月20日 | |
特許 5952029 | フォトレジスト組成物、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法 | 2016年 7月13日 | |
特許 5947028 | ポリマー、フォトレジスト組成物、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法 | 2016年 7月 6日 | |
特許 5945416 | 上塗りフォトレジストと共に使用するためのコーティング組成物 | 2016年 7月 5日 | |
特許 5945450 | 高屈折率硬化性液体発光ダイオード封止材配合物 | 2016年 7月 5日 | |
特許 5941280 | 重合性光酸発生剤 | 2016年 6月29日 | |
特許 5937342 | めっき触媒及び方法 | 2016年 6月22日 | |
特許 5937343 | めっき触媒及び方法 | 2016年 6月22日 | |
特許 5926555 | 光酸発生モノマーおよびその前駆体 | 2016年 5月25日 | |
特許 5923566 | 光酸発生剤、フォトレジスト及びコーティングされた基板、並びに、電子デバイスを形成するための方法 | 2016年 5月24日 | |
特許 5918111 | 光感応性酸発生剤およびそれらを含むフォトレジスト | 2016年 5月18日 | |
特許 5919130 | 発光ダイオードを製造する方法 | 2016年 5月18日 | |
特許 5912372 | セレン/第1B族/第3A族インク、並びにその製造方法および使用方法 | 2016年 4月27日 |
66 件中 31-45 件を表示
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5961363 5957213 5955552 5952029 5947028 5945416 5945450 5941280 5937342 5937343 5926555 5923566 5918111 5919130 5912372
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11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
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11月27日(水) - 東京 港区
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11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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