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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第508位 66件
(2015年:第497位 67件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第446位 64件
(2015年:第491位 50件)
(ランキング更新日:2025年6月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5913076 | 脂環式モノマー、これを含むポリマー、およびこのポリマーを含むフォトレジスト組成物 | 2016年 4月27日 | |
特許 5913241 | 複数の酸発生剤化合物を含むフォトレジスト | 2016年 4月27日 | |
特許 5913461 | フォトレジスト組成物、コーティング基板、および電子デバイスを製造する方法 | 2016年 4月27日 | |
特許 5902502 | ガリウム配合インク、並びにその製造方法および使用方法 | 2016年 4月13日 | |
特許 5897986 | ポリマー組成物およびこのポリマーを含むフォトレジスト | 2016年 4月 6日 | |
特許 5886903 | 電気化学的に堆積されたインジウム複合体 | 2016年 3月16日 | |
特許 5878706 | 送達装置およびその使用方法 | 2016年 3月 8日 | |
特許 5872760 | 半導体基体のテクスチャ化 | 2016年 3月 1日 | |
特許 5868155 | 半導体の電気化学エッチング | 2016年 2月24日 | |
特許 5869750 | 上塗りフォトレジストと共に使用するのに好適なコーティング組成物 | 2016年 2月24日 | |
特許 5863840 | 液浸リソグラフィーのための組成物および方法 | 2016年 2月17日 | |
特許 5865682 | フラックス組成物およびはんだ付け方法 | 2016年 2月17日 | |
特許 5866253 | 発光ダイオードを製造する方法 | 2016年 2月17日 | |
特許 5854607 | 窒素含有化合物を含むフォトレジスト | 2016年 2月 9日 | |
特許 5854726 | ニッケル上に銀ストライクを電気めっきする方法 | 2016年 2月 9日 |
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5913076 5913241 5913461 5902502 5897986 5886903 5878706 5872760 5868155 5869750 5863840 5865682 5866253 5854607 5854726
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