アイメックの特許登録一覧 2011年

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公報番号	発明の名称	出願人	公報発行日
特許 4837737	分配されたアナログリソースを伴うシステム	アイメック　他	2011年12月14日
特許 4832819	タングステン系のバリアメタルと一体化された銅を化学機械研磨するためのスラリー組成物及び方法	アイメック	2011年12月 7日
特許 4809844	半導体基板のキャリア濃度レベルと電気接合深さを独立して引き出す方法および装置	アイメック	2011年11月 9日
特許 4809638	液浸リソグラフィの方法および装置	アイメック	2011年11月 9日
特許 4801356	深溝エアギャップの形成とその関連応用	アイメック	2011年10月26日
特許 4791059	エアギャップを伴うダマシーン構造を有する半導体デバイスの製造方法	アイメック　他	2011年10月12日
特許 4772188	強誘電コンデンサの作成方法および基板上にＰＺＴ層を成長させる方法	アイメック	2011年 9月14日
特許 4769638	原子層成長法	アイメック	2011年 9月 7日
特許 4750400	半導体基盤に活性化不純物の階層構造を提供する方法	アイメック　他	2011年 8月17日
特許 4751004	厚さが異なる領域を有するデバイスまたはデバイス層の製造方法	アイメック	2011年 8月17日
特許 4733319	プローブチップ構造の製造方法	アイメック	2011年 7月27日
特許 4722448	半導体の接続領域の接触抵抗を低減する方法	アイメック　他	2011年 7月13日
特許 4699719	Ｈｉｇｈ−ｋ物質を選択的に除去する方法	アイメック	2011年 6月15日
特許 4690521	広い範囲の波長で同調可能な集積化された半導体装置及び広い範囲の波長で同調可能な半導体装置のための方法	アイメック　他	2011年 6月 1日
特許 4678074	セミクローラ	株式会社アイメック	2011年 4月27日

24 件中 1-15 件を表示

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4837737 4832819 4809844 4809638 4801356 4791059 4772188 4769638 4750400 4751004 4733319 4722448 4699719 4690521 4678074

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