※ ログインすれば出願人(アイメック)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2016年 出願公開件数ランキング 第7297位 2件
(2015年:第1576位 15件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第748位 32件
(2015年:第1019位 20件)
(ランキング更新日:2025年4月1日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6054070 | HEMT装置を製造するCMOSコンパチブルな方法とそのHEMT装置 | 2016年12月27日 | |
特許 6054112 | 光学リソグラフィでの照明光源形状定義 | 2016年12月27日 | |
特許 6043084 | 半導体基板の洗浄方法および洗浄装置 | 2016年12月14日 | |
特許 6034619 | MEMS素子およびそれを用いた電気機器 | 2016年11月30日 | |
特許 6029802 | 集積回路用相互接続構造の製造方法 | 2016年11月24日 | |
特許 6031253 | ハイブリッドMOSFETデバイスの製造方法およびそれにより得られるハイブリッドMOSFET | 2016年11月24日 | |
特許 6013777 | ライントンネリングトンネル電界効果トランジスタ(TFET)及びその製造方法 | 2016年10月25日 | |
特許 6009738 | ナノチャネルデバイスおよびその製造方法 | 2016年10月19日 | |
特許 6005361 | 半導体材料の選択堆積方法 | 2016年10月12日 | |
特許 6006296 | 階層的カーボンからなるナノまたはマイクロ構造体 | 2016年10月12日 | |
特許 6006796 | 異なってドープされた領域のパターンの形成方法 | 2016年10月12日 | |
特許 6002124 | TSVベースの3次元積層ICのためのテストアーキテクチャ | 2016年10月 5日 | |
特許 5969811 | シリコン・フォトニクスプラットフォーム上でのフォトニックデバイスの共集積化方法 | 2016年 8月17日 | |
特許 5964040 | 分離トレンチの形成方法 | 2016年 8月 3日 | |
特許 5964235 | スペクトル・イメージングシステム | 2016年 8月 3日 |
33 件中 1-15 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
6054070 6054112 6043084 6034619 6029802 6031253 6013777 6009738 6005361 6006296 6006796 6002124 5969811 5964040 5964235
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。アイメックの知財の動向チェックに便利です。
4月1日(火) - 山口 山口市
4月1日(火) -
4月2日(水) -
4月2日(水) -
4月4日(金) -
4月1日(火) - 山口 山口市
4月9日(水) -
4月9日(水) -
4月10日(木) - 東京 港区赤坂3-9-1 紀陽ビル4階
【セミナー|知財業界で働くなら知っておくべき】知財部長と代表弁理士が伝える、知財部と事務所の違いとは〈4/10(木)19時~〉
4月11日(金) -
〒141-0031 東京都品川区西五反田3-6-20 いちご西五反田ビル8F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
愛知県名古屋市中区丸の内二丁目8番11号 セブン丸の内ビル6階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒460-0008 愛知県名古屋市中区栄一丁目23番29号 伏見ポイントビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国商標 鑑定 コンサルティング