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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第7297位 2件 (2015年:第1576位 15件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第748位 32件 (2015年:第1019位 20件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6054070 | HEMT装置を製造するCMOSコンパチブルな方法とそのHEMT装置 | 2016年12月27日 | |
特許 6054112 | 光学リソグラフィでの照明光源形状定義 | 2016年12月27日 | |
特許 6043084 | 半導体基板の洗浄方法および洗浄装置 | 2016年12月14日 | |
特許 6034619 | MEMS素子およびそれを用いた電気機器 | 2016年11月30日 | |
特許 6029802 | 集積回路用相互接続構造の製造方法 | 2016年11月24日 | |
特許 6031253 | ハイブリッドMOSFETデバイスの製造方法およびそれにより得られるハイブリッドMOSFET | 2016年11月24日 | |
特許 6013777 | ライントンネリングトンネル電界効果トランジスタ(TFET)及びその製造方法 | 2016年10月25日 | |
特許 6009738 | ナノチャネルデバイスおよびその製造方法 | 2016年10月19日 | |
特許 6005361 | 半導体材料の選択堆積方法 | 2016年10月12日 | |
特許 6006296 | 階層的カーボンからなるナノまたはマイクロ構造体 | 2016年10月12日 | |
特許 6006796 | 異なってドープされた領域のパターンの形成方法 | 2016年10月12日 | |
特許 6002124 | TSVベースの3次元積層ICのためのテストアーキテクチャ | 2016年10月 5日 | |
特許 5969811 | シリコン・フォトニクスプラットフォーム上でのフォトニックデバイスの共集積化方法 | 2016年 8月17日 | |
特許 5964040 | 分離トレンチの形成方法 | 2016年 8月 3日 | |
特許 5964235 | スペクトル・イメージングシステム | 2016年 8月 3日 |
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6054070 6054112 6043084 6034619 6029802 6031253 6013777 6009738 6005361 6006296 6006796 6002124 5969811 5964040 5964235
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11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
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11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
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11月28日(木) - 京都 京都市
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11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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