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株式会社ブイ・テクノロジー
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第971位 29件
（
2010年：第1125位 27件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第886位 31件
（2010年：第1872位 10件）
（ランキング更新日：2025年4月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ブイ・テクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4829055 | 微小高さ測定方法及び微小高さ測定装置 | 2011年11月30日 | |
| 特許 4822914 | 欠陥修正方法 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4822977 | ブラックマトリクスのパターン形成方法及び露光装置 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4785361 | 光学式検査装置 | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4777682 | スキャン露光装置 | 2011年 9月21日 | |
| 特許 4778213 | 欠陥修正方法 | 2011年 9月21日 | |
| 特許 4773077 | オートフォーカス装置及びオートフォーカス方法 | 2011年 9月14日 | |
| 特許 4773158 | 露光装置 | 2011年 9月14日 | |
| 特許 4773160 | 露光装置 | 2011年 9月14日 | |
| 特許 4764237 | 露光装置 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4764197 | 液晶表示用基板の製造方法 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4764250 | インク充填装置 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4754924 | 露光装置 | 2011年 8月24日 | |
| 特許 4738887 | 露光装置 | 2011年 8月 3日 | |
| 特許 4731886 | 液晶表示装置用基板の製造方法 | 2011年 7月27日 |
31 件中 1-15 件を表示
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4829055 4822914 4822977 4785361 4777682 4778213 4773077 4773158 4773160 4764237 4764197 4764250 4754924 4738887 4731886
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