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株式会社ブイ・テクノロジー
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第867位 33件
（
2014年：第606位 53件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第532位 45件
（
2014年：第644位 49件）
（ランキング更新日：2024年9月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ブイ・テクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5824780 | 透明膜検査装置及び検査方法 | 2015年12月 2日 | |
| 特許 5825470 | 露光装置及び遮光板 | 2015年12月 2日 | |
| 特許 5825515 | 自己組織化方法及びそれを使用したエピタキシャル成長方法 | 2015年12月 2日 | |
| 特許 5825546 | 露光装置用光照射装置 | 2015年12月 2日 | |
| 特許 5828178 | プリアライメント装置及びプリアライメント方法 | 2015年12月 2日 | |
| 特許 5816892 | 露光装置 | 2015年11月18日 | |
| 特許 5817057 | レーザチャンバ | 2015年11月18日 | |
| 特許 5817564 | 露光装置 | 2015年11月18日 | |
| 特許 5817976 | マイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置 | 2015年11月18日 | |
| 特許 5807242 | マスク保持機構 | 2015年11月10日 | |
| 特許 5803027 | パルス幅拡張装置 | 2015年11月 4日 | |
| 特許 5803222 | レーザ照明装置 | 2015年11月 4日 | |
| 特許 5804455 | インクカートリッジ | 2015年11月 4日 | |
| 特許 5804457 | マスク | 2015年11月 4日 | |
| 特許 5804511 | 露光装置 | 2015年11月 4日 |
46 件中 1-15 件を表示
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5824780 5825470 5825515 5825546 5828178 5816892 5817057 5817564 5817976 5807242 5803027 5803222 5804455 5804457 5804511
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点（米国・欧州（EPC)・中国）～米国ならびに EPC （欧州特許条約）・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します～
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