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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第1102位 25件
(2018年:第796位 35件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第787位 27件
(2018年:第967位 21件)
(ランキング更新日:2025年2月18日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6487015 | 溶融体から水平リボンを成長させ、溶融体からの第1材料のリボンを形成する方法 | 2019年 3月20日 | |
特許 6475247 | 基板に供給されるイオンビームを制御する処理装置及び方法 | 2019年 3月 6日 | |
特許 6475751 | 冷却ブロック及びガス噴射を使用した結晶シート成長のためのシステム及び方法 | 2019年 3月 6日 | |
特許 6474395 | 3次元構造体内にドープされた垂直チャンネルを作製する方法 | 2019年 2月27日 | |
特許 6465892 | 基板処理システム及び基板処理方法 | 2019年 2月 6日 | |
特許 6461933 | イオン源及びイオン源を洗浄し動作させる方法 | 2019年 1月30日 | |
特許 6461967 | 静電チャック | 2019年 1月30日 | |
特許 6461979 | 基板をパターニングするシステム及び方法 | 2019年 1月30日 | |
特許 6452686 | イオンビームスキャナ、イオン注入装置及びスポットイオンビームを制御する方法 | 2019年 1月16日 | |
特許 6452701 | 高速スイッチ付き故障電流リミッタ及び電流リミッタシステム | 2019年 1月16日 | |
特許 6453756 | イオンビーム処理装置 | 2019年 1月16日 | |
特許 6450372 | イオン注入装置のSiCコーティング | 2019年 1月 9日 |
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6487015 6475247 6475751 6474395 6465892 6461933 6461967 6461979 6452686 6452701 6453756 6450372
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2月20日(木) -
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2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
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2月27日(木) - 東京 港区
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