ホーム > 特許ランキング > ヴァリアン セミコンダクター イクイップメント アソシエイツ インコーポレイテ… > 2021年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(ヴァリアン セミコンダクター イクイップメント アソシエイツ インコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2021年 出願公開件数ランキング 第2162位 10件
(2020年:第2114位 10件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第664位 33件
(2020年:第951位 21件)
(ランキング更新日:2025年6月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6886928 | 真空対応式LED基板ヒータ | 2021年 6月16日 | |
特許 6882181 | ワークピース保持・加熱装置 | 2021年 6月 2日 | |
特許 6873058 | 基板を保持するための装置 | 2021年 5月19日 | |
特許 6866350 | 基板を処理する装置及びシステム、及び基板をエッチングする方法 | 2021年 4月28日 | |
特許 6867393 | 基板のドーピング方法、半導体デバイスのドーピング方法及び基板をドーピングするシステム | 2021年 4月28日 | |
特許 6853184 | 三次元デバイスの製造方法及びマルチゲート型トランジスタの製造方法 | 2021年 4月14日 | |
特許 6854783 | ワークピース処理手法 | 2021年 4月 7日 | |
特許 6847046 | 注入処理制御装置及びイオン注入装置 | 2021年 3月24日 | |
特許 6847049 | 多層堆積処理装置 | 2021年 3月24日 | |
特許 6842457 | ワークピースを選択的に処理するシステム及び方法 | 2021年 3月17日 | |
特許 6836594 | イオンビームを生成するための装置 | 2021年 3月 3日 | |
特許 6831385 | 間接加熱陰極イオン源および間接加熱陰極イオン源と共に使用するための装置 | 2021年 2月17日 | |
特許 6827462 | 基板を処理するための装置、システム及び方法 | 2021年 2月10日 | |
特許 6813511 | 三次元デバイス及びFinFETデバイスを処理する方法及び形成する方法 | 2021年 1月13日 | |
特許 6814208 | 薄型の引出し電極アセンブリ | 2021年 1月13日 |
33 件中 16-30 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
6886928 6882181 6873058 6866350 6867393 6853184 6854783 6847046 6847049 6842457 6836594 6831385 6827462 6813511 6814208
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ヴァリアン セミコンダクター イクイップメント アソシエイツ インコーポレイテッドの知財の動向チェックに便利です。
6月25日(水) -
6月25日(水) -
6月25日(水) -
6月25日(水) -
6月25日(水) -
6月26日(木) -
6月26日(木) -
6月26日(木) -
6月27日(金) -
6月27日(金) - 大阪 大阪市
6月27日(金) -
6月27日(金) -
6月27日(金) -
6月25日(水) -
7月1日(火) -
7月2日(水) -
7月2日(水) -
7月3日(木) -
7月3日(木) -
7月1日(火) -
新潟県新潟市東区新松崎3-22-15 ラフィネドミールⅡ-102 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟
〒210-0024 神奈川県川崎市川崎区日進町3-4 unicoA 303 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
愛知県名古屋市中区栄3-2-3 名古屋日興證券ビル4階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング