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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第1876位 11件
(
2024年:第1646位 13件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第2048位 8件
(
2024年:第2757位 6件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2025-540117 | オルガノスズアルコキシドの直接合成 | 2025年12月11日 | |
| 特開 2025-134859 | モノアルキルスズアルコキシドの安定な溶液、並びにそれらの加水分解生成物及び縮合生成物 | 2025年 9月17日 | |
| 特表 2025-530028 | 金属酸化物フォトレジスト用の添加剤、添加剤を用いたポジティブトーン現像、及びダブルベークダブル現像処理 | 2025年 9月10日 | |
| 特開 2025-129159 | 無機レジストパターニング用のプロセス環境 | 2025年 9月 4日 | |
| 特開 2025-128363 | 中間凍結工程による有機金属光パターニング可能層を用いたマルチパターニング | 2025年 9月 2日 | |
| 特表 2025-519455 | 酸化性ハロゲン供与環境における有機金属レジストのガスに基づく現像 | 2025年 6月26日 | |
| 特開 2025-94086 | 有機金属の金属カルコゲナイドクラスター及びリソグラフィへの応用 | 2025年 6月24日 | |
| 特表 2025-517914 | ヒドロカルビル配位子に酸素ヘテロ原子を有する放射線感受性有機スズ組成物 | 2025年 6月12日 | |
| 特開 2025-72424 | 有機金属フォトレジスト現像剤組成物及び処理方法 | 2025年 5月 9日 | |
| 特開 2025-13880 | ポリアルキル汚染が少ないモノアルキルスズ化合物、それらの組成物及び方法 | 2025年 1月28日 | |
| 特開 2025-901 | 微粒子汚染を有するモノアルキルスズトリアルコキシド及び/又はモノアルキルスズトリアミド、並びに対応する方法 | 2025年 1月 7日 |
11 件中 1-11 件を表示
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2025-540117 2025-134859 2025-530028 2025-129159 2025-128363 2025-519455 2025-94086 2025-517914 2025-72424 2025-13880 2025-901
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