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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第1434位 17件
(2010年:第1125位 27件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第3248位 5件
(2010年:第8338位 1件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2011-249811 | ExBセパレータを用いた反射電子ビーム投射リソグラフィー | 2011年12月 8日 | |
特表 2011-529274 | ウェーハを検査しかつ/または分類するコンピュータ内装備方法 | 2011年12月 1日 | |
特表 2011-528864 | 前方フィードと側方フィードの使用および計測セルの再使用によって改善された度量衡計測 | 2011年11月24日 | |
特表 2011-525995 | 非球面の表面をもつ反射屈折対物光学系を使用する外部ビーム伝送システム | 2011年 9月29日 | |
特開 2011-176316 | 多反射モードを有する電子反射板 | 2011年 9月 8日 | |
特表 2011-524635 | ウェーハー上の設計欠陥および工程欠陥の検出、ウェーハー上の欠陥の精査、設計内の1つ以上の特徴を工程監視特徴として使用するための選択、またはそのいくつかの組み合わせのためのシステムおよび方法 | 2011年 9月 1日 | |
特表 2011-523215 | 基板調査デバイス | 2011年 8月 4日 | |
特表 2011-522418 | 検出アルゴリズムの1つ以上のパラメータの値を選択するために用いられる情報を生成する方法及びシステム | 2011年 7月28日 | |
特表 2011-521454 | ウェハー上の欠陥を検出して検査結果を生成するシステム及び方法 | 2011年 7月21日 | |
特表 2011-521475 | ツール及びプロセスの効果を分離する基板マトリクス | 2011年 7月21日 | |
特表 2011-521229 | 検査システムの偏光設定選択のための、コンピュータを利用した方法、キャリアメディアおよびシステム | 2011年 7月21日 | |
特表 2011-521235 | 急な勾配を有するウェハにおける形状および厚さ変動の測定 | 2011年 7月21日 | |
特表 2011-520126 | その場差分光法 | 2011年 7月14日 | |
特表 2011-517487 | 小さな反射屈折対物レンズを用いる分割視野検査システム | 2011年 6月 9日 | |
特表 2011-510477 | マルチチャック走査ステージ | 2011年 3月31日 |
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2011-249811 2011-529274 2011-528864 2011-525995 2011-176316 2011-524635 2011-523215 2011-522418 2011-521454 2011-521475 2011-521229 2011-521235 2011-520126 2011-517487 2011-510477
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2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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