特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ケーエルエー−テンカー・コーポレーション

※ ログインすれば出願人(ケーエルエー−テンカー・コーポレーション)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第1434位　17件（2010年：第1125位　27件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第3248位　5件（2010年：第8338位　1件）

（ランキング更新日：2024年11月11日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

ケーエルエー−テンカー・コーポレーションの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2011-249811	ＥｘＢセパレータを用いた反射電子ビーム投射リソグラフィー	2011年12月 8日
特表 2011-529274	ウェーハを検査しかつ／または分類するコンピュータ内装備方法	2011年12月 1日
特表 2011-528864	前方フィードと側方フィードの使用および計測セルの再使用によって改善された度量衡計測	2011年11月24日
特表 2011-525995	非球面の表面をもつ反射屈折対物光学系を使用する外部ビーム伝送システム	2011年 9月29日
特開 2011-176316	多反射モードを有する電子反射板	2011年 9月 8日
特表 2011-524635	ウェーハー上の設計欠陥および工程欠陥の検出、ウェーハー上の欠陥の精査、設計内の１つ以上の特徴を工程監視特徴として使用するための選択、またはそのいくつかの組み合わせのためのシステムおよび方法	2011年 9月 1日
特表 2011-523215	基板調査デバイス	2011年 8月 4日
特表 2011-522418	検出アルゴリズムの１つ以上のパラメータの値を選択するために用いられる情報を生成する方法及びシステム	2011年 7月28日
特表 2011-521454	ウェハー上の欠陥を検出して検査結果を生成するシステム及び方法	2011年 7月21日
特表 2011-521475	ツール及びプロセスの効果を分離する基板マトリクス	2011年 7月21日
特表 2011-521229	検査システムの偏光設定選択のための、コンピュータを利用した方法、キャリアメディアおよびシステム	2011年 7月21日
特表 2011-521235	急な勾配を有するウェハにおける形状および厚さ変動の測定	2011年 7月21日
特表 2011-520126	その場差分光法	2011年 7月14日
特表 2011-517487	小さな反射屈折対物レンズを用いる分割視野検査システム	2011年 6月 9日
特表 2011-510477	マルチチャック走査ステージ	2011年 3月31日

17 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2011-249811 2011-529274 2011-528864 2011-525995 2011-176316 2011-524635 2011-523215 2011-522418 2011-521454 2011-521475 2011-521229 2011-521235 2011-520126 2011-517487 2011-510477

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ケーエルエー−テンカー・コーポレーションの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数