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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第1323位 19件 (2014年:第2128位 10件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第1164位 17件 (2014年:第907位 32件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2015-215349 | 試料を二つの別個のチャンネルで同時に検査するためのシステムおよび方法 | 2015年12月 3日 | |
特開 2015-215352 | ウェーハを検査しかつ/または分類するコンピュータ実装方法 | 2015年12月 3日 | |
特開 2015-200661 | 計測システムおよび計測方法 | 2015年11月12日 | |
特開 2015-180953 | ツール及びプロセスの効果を分離する基板マトリクス | 2015年10月15日 | |
特開 2015-172585 | 検査システム | 2015年10月 1日 | |
特開 2015-172588 | 極紫外線検査システム | 2015年10月 1日 | |
特開 2015-132621 | 標準参照ダイ比較検査に用いるための標準参照ダイを生成する方法及びウエハーを検査するための方法 | 2015年 7月23日 | |
特開 2015-111148 | スピンウェーハ検査システム | 2015年 6月18日 | |
特開 2015-111714 | 基板プロセス装置および方法 | 2015年 6月18日 | |
特開 2015-96866 | ウエハ上の欠陥を検出するためのシステムおよび方法 | 2015年 5月21日 | |
特開 2015-84443 | ウェーハ用検査工程を生成するための方法及びシステム | 2015年 4月30日 | |
特開 2015-62022 | ウエハーを検査するように構成される装置 | 2015年 4月 2日 | |
特開 2015-57656 | 反射対物鏡、ミラーを有する広帯域対物光学系、及び屈折レンズを有する光学撮像システム、及び2つ以上の結像経路を有する広帯域光学撮像システム | 2015年 3月26日 | |
特開 2015-43099 | 計測システムの照明サブシステム、計測システム、および計測測定のために試験片を照明するための方法 | 2015年 3月 5日 | |
特開 2015-43452 | 応力ならびにオーバーレイのフィードフォーワード、及び/または、フィードバック・リソグラフィック・プロセス制御 | 2015年 3月 5日 |
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2015-215349 2015-215352 2015-200661 2015-180953 2015-172585 2015-172588 2015-132621 2015-111148 2015-111714 2015-96866 2015-84443 2015-62022 2015-57656 2015-43099 2015-43452
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