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ケーエルエー−テンカー・コーポレーション

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  2015年 出願公開件数ランキング    第1323位 19件 上昇2014年:第2128位 10件)

  2015年 特許取得件数ランキング    第1164位 17件 下降2014年:第907位 32件)

(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2015-215349 試料を二つの別個のチャンネルで同時に検査するためのシステムおよび方法 2015年12月 3日
特開 2015-215352 ウェーハを検査しかつ/または分類するコンピュータ実装方法 2015年12月 3日
特開 2015-200661 計測システムおよび計測方法 2015年11月12日
特開 2015-180953 ツール及びプロセスの効果を分離する基板マトリクス 2015年10月15日
特開 2015-172585 検査システム 2015年10月 1日
特開 2015-172588 極紫外線検査システム 2015年10月 1日
特開 2015-132621 標準参照ダイ比較検査に用いるための標準参照ダイを生成する方法及びウエハーを検査するための方法 2015年 7月23日
特開 2015-111148 スピンウェーハ検査システム 2015年 6月18日
特開 2015-111714 基板プロセス装置および方法 2015年 6月18日
特開 2015-96866 ウエハ上の欠陥を検出するためのシステムおよび方法 2015年 5月21日
特開 2015-84443 ウェーハ用検査工程を生成するための方法及びシステム 2015年 4月30日
特開 2015-62022 ウエハーを検査するように構成される装置 2015年 4月 2日
特開 2015-57656 反射対物鏡、ミラーを有する広帯域対物光学系、及び屈折レンズを有する光学撮像システム、及び2つ以上の結像経路を有する広帯域光学撮像システム 2015年 3月26日
特開 2015-43099 計測システムの照明サブシステム、計測システム、および計測測定のために試験片を照明するための方法 2015年 3月 5日
特開 2015-43452 応力ならびにオーバーレイのフィードフォーワード、及び/または、フィードバック・リソグラフィック・プロセス制御 2015年 3月 5日

19 件中 1-15 件を表示

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2015-215349 2015-215352 2015-200661 2015-180953 2015-172585 2015-172588 2015-132621 2015-111148 2015-111714 2015-96866 2015-84443 2015-62022 2015-57656 2015-43099 2015-43452

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