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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第1902位 13件
(2012年:第1162位 23件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第2127位 10件
(2012年:第4646位 3件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5341769 | 欠陥レビューの間にレビューされるべきウェーハ上の位置を決定する方法、設計、欠陥レビュー・ツールおよびシステム | 2013年11月13日 | |
特許 5341985 | 検査システムの偏光設定選択のための、コンピュータを利用した方法、キャリアメディアおよびシステム | 2013年11月13日 | |
特許 5331813 | 反射対物鏡、ミラーを有する広帯域対物光学系、及び屈折レンズを有する光学撮像システム、及び2つ以上の結像経路を有する広帯域光学撮像システム | 2013年10月30日 | |
特許 5309304 | オーバーレイ・エラーを減少する方法及び製造プロセスのための熱プロファイルを生成する装置 | 2013年10月 9日 | |
特許 5249485 | 電子ビームによって誘導されるX線微量分析を使用した薄膜の厚さ測定 | 2013年 7月31日 | |
特許 5230730 | 裏面照射型線形センサーを使用する検査システム | 2013年 7月10日 | |
特許 5227953 | シールドを備えるプロセス条件測定素子 | 2013年 7月 3日 | |
特許 5225297 | ウエハー上に形成されたダイに於けるアレイ領域の認識方法、ならびに係る方法の設定方法 | 2013年 7月 3日 | |
特許 5199539 | 焦点ずれ検出のためのマルチスペクトル技術 | 2013年 5月15日 | |
特許 5180419 | 重ね合わせマーク、重ね合わせマークの設計方法および重ね合わせ測定の方法 | 2013年 4月10日 |
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5341769 5341985 5331813 5309304 5249485 5230730 5227953 5225297 5199539 5180419
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