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ケーエルエー−テンカー・コーポレーション
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第1265位 19件
（
2014年：第2128位 10件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第1164位 17件
（
2014年：第907位 32件）
（ランキング更新日：2026年10月16日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ケーエルエー−テンカー・コーポレーションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5805808 | プロセス条件測定デバイス | 2015年11月10日 | |
| 特許 5801307 | 計測システムおよび計測方法 | 2015年10月28日 | |
| 特許 5769623 | ウェーハを検査しかつ／または分類するコンピュータ内装備方法 | 2015年 8月26日 | |
| 特許 5758406 | 基板トポグラフィならびにそのリソグラフィ・デフォーカスおよびオーバーレイとの関係についてのサイトに基づく定量化 | 2015年 8月 5日 | |
| 特許 5758121 | 標準参照ダイ比較検査に用いるための標準参照ダイを生成する方法及びウエハーを検査するための方法 | 2015年 8月 5日 | |
| 特許 5752417 | 光学結晶の環境制御用エンクロージャ | 2015年 7月22日 | |
| 特許 5748748 | 極紫外線検査システム | 2015年 7月15日 | |
| 特許 5744120 | 反射対物鏡、ミラーを有する広帯域対物光学系、及び屈折レンズを有する光学撮像システム、及び２つ以上の結像経路を有する広帯域光学撮像システム | 2015年 7月 1日 | |
| 特許 5719850 | フォトレジストシミュレーション | 2015年 5月20日 | |
| 特許 5719843 | 設計データおよび欠陥データを使用したスキャナ性能の比較およびマッチング | 2015年 5月20日 | |
| 特許 5719782 | ウエハ上の欠陥を検出するためのシステムおよび方法 | 2015年 5月20日 | |
| 特許 5701602 | ウエハーを検査するように構成される装置 | 2015年 4月15日 | |
| 特許 5701095 | 多反射モードを有する電子反射板 | 2015年 4月15日 | |
| 特許 5694317 | 荷電粒子エネルギー分析器装置および方法 | 2015年 4月 1日 | |
| 特許 5694307 | 異なるピッチを有する多重アレイ領域を同時に検査する方法および装置 | 2015年 4月 1日 |
17 件中 1-15 件を表示
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5805808 5801307 5769623 5758406 5758121 5752417 5748748 5744120 5719850 5719843 5719782 5701602 5701095 5694317 5694307
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