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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第2128位 10件 (2013年:第1902位 13件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第907位 32件 (2013年:第2127位 10件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5639042 | その場差分光法 | 2014年12月10日 | |
特許 5639169 | 暗視野検査システムおよび暗視野検査システムを構成する方法 | 2014年12月10日 | |
特許 5635987 | 基板の表面の計測特性を評価するシステムおよび方法 | 2014年12月 3日 | |
特許 5634864 | リソグラフィック・プロセスに於ける、プロセス制御方法およびプロセス制御装置 | 2014年12月 3日 | |
特許 5634989 | 対物光学系および試料検査装置 | 2014年12月 3日 | |
特許 5635011 | 光散乱計測ターゲット設計の最適化 | 2014年12月 3日 | |
特許 5624660 | 検査レシピ作成システムおよびその方法 | 2014年11月12日 | |
特許 5624326 | ウェーハ上に形成されたアレイ領域のための検査領域のエッジを正確に識別する方法、及び、ウェーハ上に形成されたアレイ領域に検知された欠陥をビニングする方法 | 2014年11月12日 | |
特許 5606313 | ウエハの領域全体の半導体パラメータを予測するための装置および方法 | 2014年10月15日 | |
特許 5602146 | レチクル上の欠陥を検出する方法及びシステム | 2014年10月 8日 | |
特許 5599387 | ウェハー上の欠陥を検出して検査結果を生成するシステム及び方法 | 2014年10月 1日 | |
特許 5583766 | 時間的に変化する欠陥分類性能の監視のための方法、システムおよびコンピュータ可読媒体 | 2014年 9月 3日 | |
特許 5584682 | 前方フィードと側方フィードの使用および計測セルの再使用によって改善された度量衡計測 | 2014年 9月 3日 | |
特許 5579452 | チャックを使用する基板処理方法および基板処理装置 | 2014年 8月27日 | |
特許 5567008 | 検出アルゴリズムの1つ以上のパラメータの値を選択するために用いられる情報を生成する方法及びシステム | 2014年 8月 6日 |
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5639042 5639169 5635987 5634864 5634989 5635011 5624660 5624326 5606313 5602146 5599387 5583766 5584682 5579452 5567008
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11月22日(金) -
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11月25日(月) - 岐阜 各務原市
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11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
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11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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