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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第3099位 6件
(2015年:第1323位 19件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第1440位 14件
(2015年:第1164位 17件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6042924 | ウエハーを検査するための方法、システム、及び、コンピュータ読み取り可能な媒体 | 2016年12月14日 | |
特許 6042941 | 極紫外線検査システム | 2016年12月14日 | |
特許 6030616 | 対物光学系および試料検査装置 | 2016年11月24日 | |
特許 6014102 | ウエハーを検査するように構成される装置 | 2016年10月25日 | |
特許 6006263 | ウェーハー上の設計欠陥および工程欠陥の検出、ウェーハー上の欠陥の精査、設計内の1つ以上の特徴を工程監視特徴として使用するための選択、またはそのいくつかの組み合わせのためのシステムおよび方法 | 2016年10月12日 | |
特許 5980825 | ウエハー上で実施される測定中のプロセスに関するダイナミック・サンプリング・スキームを生成または実施するための方法ならびにシステム | 2016年 8月31日 | |
特許 5974037 | ウエハ用永続的データの作成と、永続的データを検査関連機能に使用するためのシステムと方法 | 2016年 8月23日 | |
特許 5945294 | 重ね合わせマーク、重ね合わせマークの設計方法および重ね合わせ測定の方法 | 2016年 7月 5日 | |
特許 5922044 | シールドを備えるプロセス条件測定素子 | 2016年 5月24日 | |
特許 5905257 | 計測システムの照明サブシステム、計測システム、および計測測定のために試験片を照明するための方法 | 2016年 4月20日 | |
特許 5878213 | ウエハーを検査するための方法、そのためのコンピュータ読み取り可能な媒体、及び、システム | 2016年 3月 8日 | |
特許 5868854 | スピンウェーハ検査システム、高周波オートフォーカス機構、および、ビーム成形/指向モジュール | 2016年 2月24日 | |
特許 5865585 | ウエハーの層の検査に用いる候補として検査装置の一つ以上の光学モードを同定するためにコンピューターにより実施する方法、コンピューター可読の媒体、および装置 | 2016年 2月17日 | |
特許 5855728 | 計測ターゲットを設計するための方法、装置および媒体 | 2016年 2月 9日 |
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6042924 6042941 6030616 6014102 6006263 5980825 5974037 5945294 5922044 5905257 5878213 5868854 5865585 5855728
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2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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