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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第185位 291件
(2016年:第182位 243件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第113位 286件
(2016年:第93位 350件)
(ランキング更新日:2025年6月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6148345 | 非磁性基板の製造方法 | 2017年 6月14日 | |
特許 6148388 | 磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法 | 2017年 6月14日 | |
特許 6148557 | 走査型共焦点内視鏡用指標ユニットおよび画像取得方法 | 2017年 6月14日 | |
特許 6141256 | フッ素アパタイト、吸着装置および分離方法 | 2017年 6月 7日 | |
特許 6141636 | 基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスクの製造方法 | 2017年 6月 7日 | |
特許 6144123 | レンズ駆動装置 | 2017年 6月 7日 | |
特許 6144184 | 屈曲撮像装置 | 2017年 6月 7日 | |
特許 6138042 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | 2017年 5月31日 | |
特許 6138113 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、および、研削用キャリア | 2017年 5月31日 | |
特許 6138114 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、および、研磨用キャリア | 2017年 5月31日 | |
特許 6138676 | 位相シフトマスクブランク及びその製造方法、並びに位相シフトマスクの製造方法 | 2017年 5月31日 | |
特許 6139516 | 光結合器および共焦点観察システム | 2017年 5月31日 | |
特許 6139646 | 密着補助層付きフォトマスク用基板および密着補助層付きフォトマスク用基板の製造方法 | 2017年 5月31日 | |
特許 6139826 | フォトマスク、パターン転写方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法 | 2017年 5月31日 | |
特許 6140047 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | 2017年 5月31日 |
287 件中 136-150 件を表示
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6148345 6148388 6148557 6141256 6141636 6144123 6144184 6138042 6138113 6138114 6138676 6139516 6139646 6139826 6140047
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