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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第185位 291件
(2016年:第182位 243件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第113位 286件
(2016年:第93位 350件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6165535 | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、半導体デバイスの製造方法、及び検査装置 | 2017年 7月19日 | |
特許 6165577 | マスクブランクの製造方法及び転写用マスクの製造方法 | 2017年 7月19日 | |
特許 6165871 | マスクブランク、転写用マスクおよび転写用マスクの製造方法 | 2017年 7月19日 | |
特許 6161321 | ガラス成形体の製造方法、及びガラス成形体の製造装置 | 2017年 7月12日 | |
特許 6161445 | ストロボスコープおよび喉頭電子内視鏡 | 2017年 7月12日 | |
特許 6161451 | 画像歪み検出装置及び画像歪み検出方法 | 2017年 7月12日 | |
特許 6161913 | マスクブランク用基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、および転写用マスクの製造方法 | 2017年 7月12日 | |
特許 6162501 | 内視鏡湾曲部 | 2017年 7月12日 | |
特許 6156967 | ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法、並びにガラス基板の端面研磨装置 | 2017年 7月 5日 | |
特許 6157832 | 電子デバイスの製造方法、表示装置の製造方法、フォトマスクの製造方法、及びフォトマスク | 2017年 7月 5日 | |
特許 6157874 | EUVリソグラフィー用多層反射膜付き基板及びEUVリソグラフィー用反射型マスクブランク、並びにEUVリソグラフィー用反射型マスク及び半導体装置の製造方法 | 2017年 7月 5日 | |
特許 6158460 | マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 | 2017年 7月 5日 | |
特許 6158589 | 内視鏡装置 | 2017年 7月 5日 | |
特許 6153620 | 電子機器用カバーガラスおよびその製造方法 | 2017年 6月28日 | |
特許 6153820 | マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法 | 2017年 6月28日 |
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6165535 6165577 6165871 6161321 6161445 6161451 6161913 6162501 6156967 6157832 6157874 6158460 6158589 6153620 6153820
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