特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ＨＯＹＡ株式会社

※ ログインすれば出願人(ＨＯＹＡ株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2017年出願公開件数ランキング　　　第185位　291件（2016年：第182位　243件）

　■　2017年特許取得件数ランキング　　　第113位　286件（2016年：第93位　350件）

（ランキング更新日：2025年6月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

ＨＯＹＡ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6165535	マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、半導体デバイスの製造方法、及び検査装置	2017年 7月19日
特許 6165577	マスクブランクの製造方法及び転写用マスクの製造方法	2017年 7月19日
特許 6165871	マスクブランク、転写用マスクおよび転写用マスクの製造方法	2017年 7月19日
特許 6161321	ガラス成形体の製造方法、及びガラス成形体の製造装置	2017年 7月12日
特許 6161445	ストロボスコープおよび喉頭電子内視鏡	2017年 7月12日
特許 6161451	画像歪み検出装置及び画像歪み検出方法	2017年 7月12日
特許 6161913	マスクブランク用基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、および転写用マスクの製造方法	2017年 7月12日
特許 6162501	内視鏡湾曲部	2017年 7月12日
特許 6156967	ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法、並びにガラス基板の端面研磨装置	2017年 7月 5日
特許 6157832	電子デバイスの製造方法、表示装置の製造方法、フォトマスクの製造方法、及びフォトマスク	2017年 7月 5日
特許 6157874	ＥＵＶリソグラフィー用多層反射膜付き基板及びＥＵＶリソグラフィー用反射型マスクブランク、並びにＥＵＶリソグラフィー用反射型マスク及び半導体装置の製造方法	2017年 7月 5日
特許 6158460	マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法	2017年 7月 5日
特許 6158589	内視鏡装置	2017年 7月 5日
特許 6153620	電子機器用カバーガラスおよびその製造方法	2017年 6月28日
特許 6153820	マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法	2017年 6月28日

287 件中 106-120 件を表示

... 8

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

6165535 6165577 6165871 6161321 6161445 6161451 6161913 6162501 6156967 6157832 6157874 6158460 6158589 6153620 6153820

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ＨＯＹＡ株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数