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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第231位 195件 (2018年:第204位 213件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第193位 139件 (2018年:第136位 218件)
(ランキング更新日:2025年2月3日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6612221 | 起上台を備える内視鏡 | 2019年11月27日 | |
特許 6612326 | マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 | 2019年11月27日 | |
特許 6608613 | 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 | 2019年11月20日 | |
特許 6606568 | 光学ガラスおよび光学素子 | 2019年11月13日 | |
特許 6602000 | 内視鏡ファイリング装置、内視鏡システム、及び画像処理方法 | 2019年11月 6日 | |
特許 6603449 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 | 2019年11月 6日 | |
特許 6598676 | 撮像装置 | 2019年10月30日 | |
特許 6599281 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 | 2019年10月30日 | |
特許 6599493 | マスクブランク用基板、マスクブランク、転写用マスク及び半導体デバイスの製造方法 | 2019年10月30日 | |
特許 6600702 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 | 2019年10月30日 | |
特許 6594151 | 超音波内視鏡 | 2019年10月23日 | |
特許 6594742 | フォトマスクブランク及びそれを用いたフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 | 2019年10月23日 | |
特許 6595728 | 内視鏡ケース | 2019年10月23日 | |
特許 6591688 | 電子内視鏡用プロセッサ及び電子内視鏡システム | 2019年10月16日 | |
特許 6587276 | 光学ガラス、光学ガラスブランク、プレス成型用ガラス素材、光学素子、およびそれらの製造方法 | 2019年10月 9日 |
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6612221 6612326 6608613 6606568 6602000 6603449 6598676 6599281 6599493 6600702 6594151 6594742 6595728 6591688 6587276
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
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