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ＨＯＹＡ株式会社

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ＨＯＹＡ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6556673	フォトマスクの製造方法、描画装置、表示装置の製造方法、フォトマスク基板の検査方法、及びフォトマスク基板の検査装置	2019年 8月 7日
特許 6556885	反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法	2019年 8月 7日
特許 6557506	内視鏡の配管部材の接続方法及び接続構造	2019年 8月 7日
特許 6552700	マスクブランク、転写用マスク、及び半導体デバイスの製造方法	2019年 7月31日
特許 6553240	位相シフトマスクブランク及びその製造方法、位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法	2019年 7月31日
特許 6553887	フォトマスクの製造方法、描画装置、フォトマスクの検査方法、及び表示装置の製造方法	2019年 7月31日
特許 6554031	フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法	2019年 7月31日
特許 6544943	マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、位相シフトマスク、および半導体デバイスの製造方法	2019年 7月17日
特許 6544964	マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法	2019年 7月17日
特許 6545060	ガラス素子、およびガラス素子の製造方法	2019年 7月17日
特許 6545795	マスクブランク、転写用マスク、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法	2019年 7月17日
特許 6547019	マスクブランク、位相シフトマスク及び半導体デバイスの製造方法	2019年 7月17日
特許 6541557	欠陥評価方法、マスクブランクの製造方法、マスクブランク、マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランク用基板、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法	2019年 7月10日
特許 6542497	マスクブランク、位相シフトマスク及び半導体デバイスの製造方法	2019年 7月10日
特許 6534506	基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び基板加工装置	2019年 6月26日

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6556673 6556885 6557506 6552700 6553240 6553887 6554031 6544943 6544964 6545060 6545795 6547019 6541557 6542497 6534506

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