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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第231位 195件 (2018年:第204位 213件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第193位 139件 (2018年:第136位 218件)
(ランキング更新日:2025年2月3日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6534507 | 基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び基板加工装置 | 2019年 6月26日 | |
特許 6535435 | プロセッサ及び内視鏡システム | 2019年 6月26日 | |
特許 6535519 | 生体鉗子及び観察システム | 2019年 6月26日 | |
特許 6532919 | 表示装置製造用の位相シフトマスクブランク、表示装置製造用の位相シフトマスク、及び表示装置の製造方法 | 2019年 6月19日 | |
特許 6527956 | 内視鏡用キャップ、内視鏡および内視鏡用キャップの製造方法 | 2019年 6月12日 | |
特許 6531202 | 画像処理装置 | 2019年 6月12日 | |
特許 6523873 | マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、およびマスクブランク | 2019年 6月 5日 | |
特許 6526938 | マスクブランク、位相シフトマスクおよび半導体デバイスの製造方法 | 2019年 6月 5日 | |
特許 6522277 | フォトマスク、フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及び表示装置の製造方法 | 2019年 5月29日 | |
特許 6517080 | 斜視型内視鏡の先端部構造 | 2019年 5月22日 | |
特許 6517411 | 光学ガラスおよび光学素子 | 2019年 5月22日 | |
特許 6517441 | 内視鏡システム | 2019年 5月22日 | |
特許 6517573 | 画像処理装置および内視鏡装置 | 2019年 5月22日 | |
特許 6513377 | 表面形状測定方法、マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び転写用マスクの製造方法 | 2019年 5月15日 | |
特許 6514143 | フォトマスクの製造方法、フォトマスク、及び表示装置の製造方法 | 2019年 5月15日 |
140 件中 76-90 件を表示
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6534507 6535435 6535519 6532919 6527956 6531202 6523873 6526938 6522277 6517080 6517411 6517441 6517573 6513377 6514143
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
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