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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第231位 195件 (2018年:第204位 213件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第193位 139件 (2018年:第136位 218件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6514155 | 電子内視鏡システムおよび内視鏡用光源装置 | 2019年 5月15日 | |
特許 6515235 | マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法 | 2019年 5月15日 | |
特許 6509628 | 内視鏡 | 2019年 5月 8日 | |
特許 6509987 | 反射型マスクブランク及びその製造方法、並びに反射型マスク及びその製造方法 | 2019年 5月 8日 | |
特許 6505891 | マスクブランク、位相シフトマスクおよびこれらの製造方法 | 2019年 4月24日 | |
特許 6505959 | ガラススペーサ及びハードディスクドライブ装置 | 2019年 4月24日 | |
特許 6505960 | スペーサ及びハードディスクドライブ装置 | 2019年 4月24日 | |
特許 6506449 | マスクブランク、位相シフトマスク及び半導体デバイスの製造方法 | 2019年 4月24日 | |
特許 6501608 | 眼内リング | 2019年 4月17日 | |
特許 6502143 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 | 2019年 4月17日 | |
特許 6499274 | 磁気ディスク用基板、磁気ディスク、及び、磁気ディスク用基板の製造方法 | 2019年 4月10日 | |
特許 6499440 | 反射型マスクブランク及び反射型マスク | 2019年 4月10日 | |
特許 6500076 | フォトマスクの製造方法及びフォトマスク基板 | 2019年 4月10日 | |
特許 6495063 | レジスト液保管容器、レジスト液供給装置、レジスト液塗布装置、レジスト液保存装置、及びマスクブランクの製造方法 | 2019年 4月 3日 | |
特許 6495472 | マスクブランク、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 | 2019年 4月 3日 |
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6514155 6515235 6509628 6509987 6505891 6505959 6505960 6506449 6501608 6502143 6499274 6499440 6500076 6495063 6495472
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
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