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ＨＯＹＡ株式会社

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ＨＯＹＡ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6573806	マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法	2019年 9月11日
特許 6574034	マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、透過型マスクブランク、及び透過型マスク、並びに半導体装置の製造方法	2019年 9月11日
特許 6574105	内視鏡装置および内視鏡システム	2019年 9月11日
特許 6574537	磁気ディスク用非磁性基板及び磁気ディスク	2019年 9月11日
特許 6570484	分析装置	2019年 9月 4日
特許 6571224	マスクブランク、転写用マスクの製造方法及び半導体装置の製造方法	2019年 9月 4日
特許 6567309	内視鏡挿入部の先端部接続構造	2019年 8月28日
特許 6567604	マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法	2019年 8月28日
特許 6558771	磁気ディスク用基板の製造方法	2019年 8月14日
特許 6559433	フォトマスクの製造方法、描画装置、フォトマスクの検査方法、フォトマスクの検査装置、及び表示装置の製造方法	2019年 8月14日
特許 6559866	眼用レンズ、その設計方法、その製造方法、および眼用レンズセット	2019年 8月14日
特許 6560854	光学ガラス、光学素子および光学ガラス素材	2019年 8月14日
特許 6561099	多層反射膜付き基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法及び反射型マスクの製造方法	2019年 8月14日
特許 6561152	マスクブランク	2019年 8月14日
特許 6556029	レジスト層付きマスクブランク、レジスト層付きマスクブランクの製造方法、及び、転写用マスクの製造方法	2019年 8月 7日

140 件中 46-60 件を表示

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6573806 6574034 6574105 6574537 6570484 6571224 6567309 6567604 6558771 6559433 6559866 6560854 6561099 6561152 6556029

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