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ＳＰＰテクノロジーズ株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第2110位 10件
（
2015年：第2117位 10件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第2983位 5件
（
2015年：第1611位 11件）
（ランキング更新日：2026年2月6日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ＳＰＰテクノロジーズ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2016-189374 | 半導体素子の製造方法及びその製造に用いられるプラズマエッチング装置 | 2016年11月 4日 | |
| 特開 2016-171323 | 配線基板の製造方法 | 2016年 9月23日 | |
| 特開 2016-167564 | 配線基板の製造方法 | 2016年 9月15日 | |
| 再表 2014-50903 | プラズマエッチング装置 | 2016年 8月22日 | |
| 特開 2016-149436 | カセット設置用アダプタ、ウェハ搬送装置、及びウェハ搬送装置へのカセット設置方法 | 2016年 8月18日 | |
| 特開 2016-134596 | 半導体製造装置用管理システム | 2016年 7月25日 | |
| 特開 2016-119484 | プラズマエッチング方法 | 2016年 6月30日 | |
| 特開 2016-103658 | プラズマエッチング装置 | 2016年 6月 2日 | |
| 特開 2016-96357 | プラズマ基板処理装置、その制御プログラム、これを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2016年 5月26日 | |
| 特開 2016-86152 | シリコン酸化膜及びその製造方法、並びにシリコン酸化膜の製造装置 | 2016年 5月19日 | |
| 特開 2016-82010 | シリコン窒化膜の製造方法及びシリコン窒化膜 | 2016年 5月16日 |
11 件中 1-11 件を表示
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2016-189374 2016-171323 2016-167564 2014-50903 2016-149436 2016-134596 2016-119484 2016-103658 2016-96357 2016-86152 2016-82010
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