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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第2064位 10件 (2017年:第1503位 18件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第2192位 7件 (2017年:第1304位 15件)
(ランキング更新日:2024年9月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2018-207129 | 基板搬送装置、及びこれを用いた基板搬送方法 | 2018年12月27日 | |
特開 2018-137266 | プラズマ加工方法及びこの方法を用いて製造された基板 | 2018年 8月30日 | |
特開 2018-137483 | プラズマ加工方法及びこの方法を用いて製造された基板 | 2018年 8月30日 | |
特開 2018-133449 | SiGe層のエッチング方法 | 2018年 8月23日 | |
再表 2017-126662 | プラズマ制御装置 | 2018年 8月 2日 | |
特開 2018-120905 | 真空搬送モジュール及び基板処理装置 | 2018年 8月 2日 | |
特開 2018-121018 | スパッタエッチング用マスク、スパッタエッチング方法及びスパッタエッチング装置 | 2018年 8月 2日 | |
特開 2018-107297 | 防着筒及びこれを備えた基板処理装置 | 2018年 7月 5日 | |
特開 2018-98457 | プラズマ処理装置 | 2018年 6月21日 | |
特開 2018-6773 | プラズマエッチング方法 | 2018年 1月11日 |
10 件中 1-10 件を表示
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2018-207129 2018-137266 2018-137483 2018-133449 2017-126662 2018-120905 2018-121018 2018-107297 2018-98457 2018-6773
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