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ＳＰＰテクノロジーズ株式会社
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第1503位 18件
（
2016年：第2110位 10件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第1304位 15件
（2016年：第2983位 5件）
（ランキング更新日：2026年2月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ＳＰＰテクノロジーズ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2017-201713 | プラズマ処理装置 | 2017年11月 9日 | |
| 特開 2017-197789 | シリコン酸化膜の製造方法及びシリコン酸化膜 | 2017年11月 2日 | |
| 特開 2017-195422 | 炭化珪素半導体素子の製造方法 | 2017年10月26日 | |
| 特開 2017-183271 | プラズマ処理装置 | 2017年10月 5日 | |
| 特開 2017-183713 | エッチング方法 | 2017年10月 5日 | |
| 特開 2017-174939 | 炭化珪素半導体素子の製造方法 | 2017年 9月28日 | |
| 特開 2017-143194 | 半導体素子の製造方法 | 2017年 8月17日 | |
| 特開 2017-108182 | エッチング保護膜形成用デポガス、プラズマエッチング方法、及びプラズマエッチング装置 | 2017年 6月15日 | |
| 特開 2017-85083 | 半導体素子の製造方法及びその製造方法に用いられるプラズマエッチング装置 | 2017年 5月18日 | |
| 再表 2015-151147 | プラズマ処理装置 | 2017年 4月13日 | |
| 再表 2015-151148 | プラズマ処理装置 | 2017年 4月13日 | |
| 再表 2015-151149 | プラズマ処理装置及びこれに用いられる開閉機構 | 2017年 4月13日 | |
| 再表 2015-151150 | プラズマ処理装置及びこれに用いられるコイル | 2017年 4月13日 | |
| 再表 2015-151151 | プラズマ処理装置 | 2017年 4月13日 | |
| 再表 2015-151153 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2017年 4月13日 |
18 件中 1-15 件を表示
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2017-201713 2017-197789 2017-195422 2017-183271 2017-183713 2017-174939 2017-143194 2017-108182 2017-85083 2015-151147 2015-151148 2015-151149 2015-151150 2015-151151 2015-151153
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