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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第128位 349件
(2017年:第131位 405件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第113位 267件
(2017年:第112位 287件)
(ランキング更新日:2025年9月1日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6311882 | フッ素含有電解液の処理方法 | 2018年 4月18日 | |
特許 6311912 | Cu−Ga二元系スパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2018年 4月18日 | |
特許 6311928 | Ta−Si−O系薄膜形成用スパッタリングターゲット | 2018年 4月18日 | |
特許 6307832 | パワーモジュール用基板、ヒートシンク付パワーモジュール用基板、ヒートシンク付パワーモジュール | 2018年 4月11日 | |
特許 6307979 | 掘削工具 | 2018年 4月11日 | |
特許 6308278 | 円筒型スパッタリングターゲット用熱間押出素材、及び、円筒型スパッタリングターゲットの製造方法 | 2018年 4月11日 | |
特許 6308364 | サーミスタ用金属窒化物材料及びその製造方法並びにフィルム型サーミスタセンサ | 2018年 4月11日 | |
特許 6308365 | サーミスタ用金属窒化物材料及びその製造方法並びにフィルム型サーミスタセンサ | 2018年 4月11日 | |
特許 6308435 | サーミスタ用金属窒化物材料及びその製造方法並びにフィルム型サーミスタセンサ | 2018年 4月11日 | |
特許 6308436 | サーミスタ用金属窒化物材料及びその製造方法並びにフィルム型サーミスタセンサ | 2018年 4月11日 | |
特許 6303420 | パワーモジュール用基板 | 2018年 4月 4日 | |
特許 6303455 | 赤外線カット機能を有する低屈折率膜形成用組成物及びこれを用いた低屈折率膜の形成方法 | 2018年 4月 4日 | |
特許 6303650 | ラフィングエンドミル | 2018年 4月 4日 | |
特許 6303710 | リチウムイオン二次電池用負極活物質の製造方法 | 2018年 4月 4日 | |
特許 6303789 | ロータからの磁石回収方法および磁石回収設備 | 2018年 4月 4日 |
272 件中 196-210 件を表示
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6311882 6311912 6311928 6307832 6307979 6308278 6308364 6308365 6308435 6308436 6303420 6303455 6303650 6303710 6303789
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9月12日(金) -
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