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サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第1031位 23件
（
2023年：第786位 35件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第909位 25件
（
2023年：第1078位 20件）
（ランキング更新日：2025年1月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2024-38283 | ＤＵＶレーザアライメントを改善するためのメトロロジ | 2024年 3月19日 | |
| 特表 2024-512352 | 半導体フォトリソグラフィで使用される光源のためのモジュールの保守 | 2024年 3月19日 | |
| 特開 2024-28316 | ガス放電レーザチャンバのためのアンダーカット電極 | 2024年 3月 4日 | |
| 特開 2024-19242 | 複数のレーザビームを組み合わせるための装置及びその方法 | 2024年 2月 8日 | |
| 特開 2024-16176 | 複数の深紫外光発振器のための制御システム | 2024年 2月 6日 | |
| 特開 2024-9127 | レーザチャンバ内の電極の寿命を延ばす方法及び装置 | 2024年 1月19日 | |
| 特表 2024-500674 | ガス放電チャンバブロワのエネルギー消費量を低減すること | 2024年 1月10日 | |
| 特表 2024-500297 | エキシマレーザの波長をその繰り返し周波数の関数として変調するための装置及び方法 | 2024年 1月 9日 | |
| 特表 2024-500075 | 帯域幅及びスペックルに基づくリソグラフィプロセスの最適化 | 2024年 1月 4日 |
24 件中 16-24 件を表示
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2024-38283 2024-512352 2024-28316 2024-19242 2024-16176 2024-9127 2024-500674 2024-500297 2024-500075
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