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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第1343位 19件 (2011年:第2749位 7件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第3300位 5件 (2011年:第5986位 2件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2012-238902 | リソグラフィシステム | 2012年12月 6日 | |
特開 2012-238900 | リソグラフィシステム | 2012年12月 6日 | |
特開 2012-238901 | リソグラフィシステム | 2012年12月 6日 | |
特開 2012-238899 | リソグラフィシステム | 2012年12月 6日 | |
特表 2012-527764 | リソグラフ処理のための2レベルパターンを発生する方法およびその方法を使用するパターン発生器 | 2012年11月 8日 | |
特表 2012-527765 | リソグラフシステムのためのパターンデータ変換 | 2012年11月 8日 | |
特表 2012-527766 | デュアルパス走査 | 2012年11月 8日 | |
特表 2012-525698 | 静電偏向器を具備する荷電粒子光学システム | 2012年10月22日 | |
特表 2012-518897 | 荷電粒子リソグラフィ装置 | 2012年 8月16日 | |
特表 2012-518878 | 真空チャンバー内の真空を実現する方法および設備 | 2012年 8月16日 | |
特表 2012-518900 | 基板支持構造体、クランプ調整ユニット及び、リソグラフィシステム | 2012年 8月16日 | |
特表 2012-518898 | 荷電粒子リソグラフィ装置と、真空チャンバー内の真空を生成する方法 | 2012年 8月16日 | |
特表 2012-518899 | 基板とクランプ準備ユニットをクランプする方法 | 2012年 8月16日 | |
特表 2012-518901 | リソグラフィ機械装置のための準備ユニット | 2012年 8月16日 | |
特表 2012-518902 | リソグラフィマシン及び基板処理構成体 | 2012年 8月16日 |
19 件中 1-15 件を表示
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2012-238902 2012-238900 2012-238901 2012-238899 2012-527764 2012-527765 2012-527766 2012-525698 2012-518897 2012-518878 2012-518900 2012-518898 2012-518899 2012-518901 2012-518902
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