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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第1706位 15件 (2016年:第1771位 13件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第1119位 18件 (2016年:第1043位 21件)
(ランキング更新日:2024年9月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2017-224828 | 標的処理ユニット | 2017年12月21日 | |
特開 2017-201306 | 入力電流を測定するためのシステム | 2017年11月 9日 | |
特開 2017-201403 | リソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトするためのアセンブリ及び方法、並びにこのようなアセンブリを有するリソグラフィシステム | 2017年11月 9日 | |
特開 2017-168848 | デュアルパス走査 | 2017年 9月21日 | |
特開 2017-161534 | 露光ツール用干渉計モジュールのアライメント | 2017年 9月14日 | |
特表 2017-520015 | ターゲット処理マシン用囲い | 2017年 7月20日 | |
特開 2017-108146 | 一つ以上の荷電粒子ビームのマニピュレーションのためのマニピュレーターデバイスを備えている荷電粒子システム | 2017年 6月15日 | |
特表 2017-513036 | 貨物固定システムおよびリソグラフィシステム内で基板を移送するための方法 | 2017年 5月25日 | |
特開 2017-85118 | リソグラフィ装置のためのデータパス | 2017年 5月18日 | |
特開 2017-72839 | 光ファイバの構成体及びこのような構成体を形成する方法 | 2017年 4月13日 | |
特開 2017-59849 | 変調装置およびそれを使用する荷電粒子マルチ小ビームリソグラフィシステム | 2017年 3月23日 | |
特表 2017-506435 | 重複線量およびフィーチャの減少によって改良されたステッチング | 2017年 3月 2日 | |
特表 2017-504187 | センサアセンブリを備えた荷電粒子リソグラフィシステム | 2017年 2月 2日 | |
特表 2017-502469 | 陰極構成体、電子銃、及びこのような電子銃を有するリソグラフィシステム | 2017年 1月19日 | |
特表 2017-501553 | 陰極構成体、電子銃、及びこのような電子銃を有するリソグラフィシステム | 2017年 1月12日 |
15 件中 1-15 件を表示
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2017-224828 2017-201306 2017-201403 2017-168848 2017-161534 2017-520015 2017-108146 2017-513036 2017-85118 2017-72839 2017-59849 2017-506435 2017-504187 2017-502469 2017-501553
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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