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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第1771位 13件
(
2015年:第1851位 12件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第1043位 21件
(
2015年:第976位 21件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2016-219812 | リソグラフィ機のクラスタのためのネットワークアーキテクチャおよびプロトコル | 2016年12月22日 | |
| 特開 2016-181514 | 電極冷却装置 | 2016年10月13日 | |
| 特表 2016-530728 | 標的処理ユニット | 2016年 9月29日 | |
| 特開 2016-173992 | 多電極積層構成体 | 2016年 9月29日 | |
| 特表 2016-529684 | 荷電粒子光学装置 | 2016年 9月23日 | |
| 特表 2016-522572 | ビームグリッドレイアウト | 2016年 7月28日 | |
| 特表 2016-521000 | 電子機器用キャビネット | 2016年 7月14日 | |
| 特表 2016-519840 | 多電極積層構成体 | 2016年 7月 7日 | |
| 特表 2016-513372 | 荷電留意ビーム処理の間の半導体基板のための電気的なチャージの規制 | 2016年 5月12日 | |
| 特表 2016-512930 | 荷電粒子リソグラフィシステムにおける近接効果補正 | 2016年 5月 9日 | |
| 特表 2016-510165 | 電極冷却装置 | 2016年 4月 4日 | |
| 特表 2016-508664 | 多電極電子光学系 | 2016年 3月22日 | |
| 特表 2016-500845 | リソグラフィシステムにおいて基板の位置を測定すること | 2016年 1月14日 |
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2016-219812 2016-181514 2016-530728 2016-173992 2016-529684 2016-522572 2016-521000 2016-519840 2016-513372 2016-512930 2016-510165 2016-508664 2016-500845
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