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マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ.

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  2016年 出願公開件数ランキング    第1771位 13件 上昇2015年:第1851位 12件)

  2016年 特許取得件数ランキング    第1043位 21件 下降2015年:第976位 21件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2016-219812 リソグラフィ機のクラスタのためのネットワークアーキテクチャおよびプロトコル 2016年12月22日
特開 2016-181514 電極冷却装置 2016年10月13日
特表 2016-530728 標的処理ユニット 2016年 9月29日
特開 2016-173992 多電極積層構成体 2016年 9月29日
特表 2016-529684 荷電粒子光学装置 2016年 9月23日
特表 2016-522572 ビームグリッドレイアウト 2016年 7月28日
特表 2016-521000 電子機器用キャビネット 2016年 7月14日
特表 2016-519840 多電極積層構成体 2016年 7月 7日
特表 2016-513372 荷電留意ビーム処理の間の半導体基板のための電気的なチャージの規制 2016年 5月12日
特表 2016-512930 荷電粒子リソグラフィシステムにおける近接効果補正 2016年 5月 9日
特表 2016-510165 電極冷却装置 2016年 4月 4日
特表 2016-508664 多電極電子光学系 2016年 3月22日
特表 2016-500845 リソグラフィシステムにおいて基板の位置を測定すること 2016年 1月14日

13 件中 1-13 件を表示

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2016-219812 2016-181514 2016-530728 2016-173992 2016-529684 2016-522572 2016-521000 2016-519840 2016-513372 2016-512930 2016-510165 2016-508664 2016-500845

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