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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第870位 33件 (2013年:第1304位 22件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第1347位 19件 (2013年:第2688位 7件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2014-535125 | プラズマ発生器 | 2014年12月25日 | |
特表 2014-534607 | フレキシブルカップリングを備えた投影システム | 2014年12月18日 | |
特開 2014-238402 | 荷電粒子ビームリソグラフィシステム及びターゲット位置決め装置 | 2014年12月18日 | |
特表 2014-532301 | リソグラフィシステムのための支持モジュール | 2014年12月 4日 | |
特表 2014-530478 | 除振モジュール及び基板処理システム | 2014年11月17日 | |
特表 2014-530481 | リソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトするためのアセンブリ及び方法、並びにこのようなアセンブリを有するリソグラフィシステム | 2014年11月17日 | |
特表 2014-530499 | 堆積された汚染物質の成長速度を予測するための方法及び装置 | 2014年11月17日 | |
特表 2014-528164 | ターゲット処理ツールのためのガイダンス | 2014年10月23日 | |
特表 2014-528165 | ターゲット位置決め装置、ターゲット位置決め装置を駆動する方法、およびそのようなターゲット位置決め装置を備えているリソグラフィシステム | 2014年10月23日 | |
特表 2014-527616 | 入力電流を測定するためのシステム | 2014年10月16日 | |
特表 2014-526794 | 二つ以上のモジュールの整列スタックを提供するためのアッセンブリーおよびそのようなアッセンブリーを備えているリソグラフィシステムまたは顕微鏡法システム | 2014年10月 6日 | |
特表 2014-526796 | ウェーハテーブル用支持構造体 | 2014年10月 6日 | |
特表 2014-526802 | 基板処理装置 | 2014年10月 6日 | |
特表 2014-521220 | ターゲットの位置データを格納するためのリソグラフィシステムおよび方法 | 2014年 8月25日 | |
特表 2014-519724 | 荷電粒子マルチ小ビーム装置 | 2014年 8月14日 |
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2014-535125 2014-534607 2014-238402 2014-532301 2014-530478 2014-530481 2014-530499 2014-528164 2014-528165 2014-527616 2014-526794 2014-526796 2014-526802 2014-521220 2014-519724
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
9月25日(水) - 東京 港
9月25日(水) -
9月25日(水) - 愛知 名古屋市
9月25日(水) - 東京 千代田区
9月25日(水) - 東京 千代田区
9月26日(木) -
9月26日(木) -
9月27日(金) -
9月27日(金) - 東京 23区
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9月27日(金) - 東京 港区
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