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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第1771位 13件 (2015年:第1851位 12件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第1043位 21件 (2015年:第976位 21件)
(ランキング更新日:2024年9月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5905581 | フレキシブルカップリングを備えた投影システム | 2016年 4月20日 | |
特許 5902201 | 磁気シールド用システム | 2016年 4月13日 | |
特許 5882348 | マルチ小ビーム露光装置における2つの小ビーム間の距離を決定する方法 | 2016年 3月 9日 | |
特許 5866323 | リソグラフィシステム、クランプ方法及びウェーハテーブル | 2016年 2月17日 | |
特許 5844468 | ターゲット位置決め装置、ターゲット位置決め装置を駆動する方法、およびそのようなターゲット位置決め装置を備えているリソグラフィシステム | 2016年 1月20日 | |
特許 5844269 | 調整装置を有する荷電粒子複数ビームレット・リソグラフィ・システム | 2016年 1月13日 |
21 件中 16-21 件を表示
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5905581 5902201 5882348 5866323 5844468 5844269
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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