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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第1851位 12件 (2014年:第870位 33件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第976位 21件 (2014年:第1347位 19件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5805851 | リソグラフィシステムにおいて基板を処理する方法 | 2015年11月10日 | |
特許 5805868 | ターゲットの位置データを格納するためのリソグラフィシステムおよび方法 | 2015年11月10日 | |
特許 5801288 | リソグラフ処理のための2レベルパターンを発生する方法およびその方法を使用するパターン発生器 | 2015年10月28日 | |
特許 5801289 | リソグラフシステムのためのパターンデータ変換 | 2015年10月28日 | |
特許 5787331 | リソグラフィシステムにおいて基板を搬送するための装置 | 2015年 9月30日 | |
特許 5788416 | 基板支持構造及び基板支持構造と基板支持構造の表面上にクランプされている基板との組み合わせ | 2015年 9月30日 | |
特許 5781523 | 荷電粒子マルチビームレットリソグラフィシステム、変調デバイスおよびその製造方法 | 2015年 9月24日 | |
特許 5781541 | 露光方法 | 2015年 9月24日 | |
特許 5784630 | 静電容量感知システム | 2015年 9月24日 | |
特許 5766758 | リソグラフィシステム、クランプ方法及びウェーハテーブル | 2015年 8月19日 | |
特許 5762981 | 荷電粒子リソグラフィ装置と、真空チャンバー内の真空を生成する方法 | 2015年 8月12日 | |
特許 5762982 | 基板とクランプ準備ユニットをクランプする方法 | 2015年 8月12日 | |
特許 5746208 | 支持および位置決め構造体、半導体設備システムおよび位置決めのための方法 | 2015年 7月 8日 | |
特許 5743886 | ターゲットを露光するための方法およびシステム | 2015年 7月 1日 | |
特許 5738973 | リソグラフィーシステム、センサ、コンバータ素子、および、製造方法 | 2015年 6月24日 |
21 件中 1-15 件を表示
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5805851 5805868 5801288 5801289 5787331 5788416 5781523 5781541 5784630 5766758 5762981 5762982 5746208 5743886 5738973
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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9月25日(水) - 東京 千代田区
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