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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第1706位 15件
(2016年:第1771位 13件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第1119位 18件
(2016年:第1043位 21件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6239583 | ラジカルを輸送するための装置および方法 | 2017年11月29日 | |
特許 6239595 | マルチ小ビーム露光装置において小ビーム位置を測定するための方法及び2つの小ビーム間の距離を測定するための方法 | 2017年11月29日 | |
特許 6239596 | 荷電粒子リソグラフィシステムおよびビーム発生器 | 2017年11月29日 | |
特許 6224252 | 標的処理ユニット | 2017年11月 1日 | |
特許 6219320 | ウェーハなどのターゲットを処理するためのリソグラフィシステム及び方法 | 2017年10月25日 | |
特許 6219374 | 荷電粒子リソグラフィシステムおよびビーム発生器 | 2017年10月25日 | |
特許 6208371 | 陰極構成体、電子銃、及びこのような電子銃を有するリソグラフィシステム | 2017年10月 4日 | |
特許 6189303 | 基板処理装置 | 2017年 8月30日 | |
特許 6181189 | 多軸微分干渉計 | 2017年 8月16日 | |
特許 6174128 | 変調デバイスおよび電力供給装置 | 2017年 8月 2日 | |
特許 6158091 | リソグラフィシステム及びこのようなリソグラフィシステムで基板を処理する方法 | 2017年 7月 5日 | |
特許 6141276 | 荷電粒子マルチ小ビーム装置 | 2017年 6月 7日 | |
特許 6133212 | アパーチャアレイ冷却部を備えた荷電粒子リソグラフィシステム | 2017年 5月24日 | |
特許 6125562 | デュアルパス走査 | 2017年 5月10日 | |
特許 6117149 | 荷電粒子ビームリソグラフィシステム及びターゲット位置決め装置 | 2017年 4月19日 |
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6239583 6239595 6239596 6224252 6219320 6219374 6208371 6189303 6181189 6174128 6158091 6141276 6133212 6125562 6117149
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特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
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